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J-GLOBAL ID:201302290493619449   整理番号:13A0937294

異なるキャッピングの組み合わせの分子ビームエピタキシャル成長InAsサブモノレーヤ量子ドットに関する総合的研究

Comprehensive study on molecular beam epitaxy-grown InAs sub-monolayer quantum dots with different capping combinations
著者 (5件):
資料名:
巻: 31  号:ページ: 03C136-03C136-4  発行年: 2013年05月 
JST資料番号: E0974A  ISSN: 2166-2746  CODEN: JVTBD9  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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異なるキャッピング層を有するInAsサブモノレイヤ量子ドットに関する総合的研究を報告した。InAs堆積とGaAs厚さの体系的最適化を行った後,固相分子ビームエピタクシーにより同じアーキテクチャで異なるキャッピング材料(2nmのGaAs,InGaAs-GaAs,InAlGaAs-GaAs)の3つの試料,A,B,C,を成長した。ドットからの基底状態遷移による光ルミネセンスピークが試料A,B,Cに対してそれぞれ898,917,867nmに観測された。発光ピークの狭い半値全幅(19~32meV)はドットサイズ分布の高い一様性を示している。通常のArrheniusプロットを用いて,試料A,B,Cに対する温度依存光ルミネセンス実験から熱的活性化エネルギーをそれぞれ49,112,109meVと計算した。研究を完結するために,試料A,B,Cから単一画素光検出器を作製し,温度依存暗電流の印加バイアス電圧による変化を測定した。暗電流は77Kで0.5Vの印加バイアスで10-5-10-4A/cm2の範囲にあると計算された。試料A,B,Cに対する温度依存暗電流測定から計算された活性化エネルギーはそれぞれ75,160,155meVであり,それらは温度依存光ルミネセンス測定で観測された傾向に従った。(翻訳著者抄録)
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分類 (3件):
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JSTが定めた文献の分類名称とコードです
半導体薄膜  ,  半導体のルミネセンス  ,  赤外・遠赤外領域の測光と光検出器 

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