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J-GLOBAL ID：201302291910380779   整理番号：13A1119407

銅めっき皮膜の表面形態に及ぼすジアリルアミン系化合物添加の影響

著者 (3件)： 山本貴代 (京都市産業技術研) ,  中村俊博 (京都市産業技術研) ,  永山富男 (京都市産業技術研)
資料名： 京都市産業技術研究所研究報告
号： 3  ページ： 44-48  発行年： 2013年06月13日 
JST資料番号： F0971B  ISSN： 2186-5124  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 電解銅箔は主にプリント配線板の導体回路材料として用いられている。最近,ポリジアリルジメチルアンモニウムクロリド(PDDA)を3-メルカプト-1-プロパンスルホン酸ナトリウム(MPS),塩素とともに添加した硫酸銅めっき浴から,平滑な電解銅箔が得られることが報告された。本研究では,平均分子量1万以上のPDDAを硫酸銅めっき浴に添加し,銅めっき皮膜の表面形態に及ぼすPDDA平均分子量の影響を調べた。PDDAの平均分子量が増大すると共に,表面粗さが大きい銅めっき皮膜が得られた。アノード隔膜を用いた場合にはめっき皮膜のRaは増大した。PDDAは電析時にアノードでの酸化反応に起因する分解が起り,その分解生成物がめっき皮膜の平滑化に関与している可能性が示唆された。

シソーラス用語： 銅箔 ,  プリント配線 ,  導体材料 ,  *銅めっき ,  *電気めっき ,  めっき皮膜 ,  めっき液 ,  ポリジアリルジメチルアンモニウムクロリド ,  塩素 ,  *表面性状 ,  表面粗さ ,  分子量 ,  隔膜 ,  酸化 ,  分解物 ,  平滑化 ,  電子顕微鏡観察
準シソーラス用語： PDDA【化合物】 ,  平均分子量 ,  酸化反応 ,  分解生成物 ,  FE-SEM ,  走査電子顕微鏡法

分類 (1件)： 電気めっき  (WC08023B)

物質索引 (1件)： 3-メルカプト-1-プロパンスルホン酸

引用文献 (10件)：

• 1) 三宅淳司:エレクトロニクス実装学会, 6, 528 (2003).
• 2) 小川信之, 上山健一, 田邉貴弘, 小野関仁, 熊倉俊寿:日立化成テクニカルレポート No.46, 15 (2006).
• 3) 高木清:表面技術, 61, 350 (2010).
• 4) 土橋誠, 松田光由, 酒井久雄, 朝長咲子, 坂田智浩, 立岡歩:特開2007-131909.
• 5) 竹田依加, 岡本尚樹, 齊藤丈靖, 近藤和夫:化学工学論文集, 37, 551 (2011).

タイトルに関連する用語 (5件)： 銅 ,  めっき皮膜 ,  表面形態 ,  ジアリル ,  アミン系化合物