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J-GLOBAL ID：201302292557960053   整理番号：13A0851933

ウェットプロセスによる発光性シリコンナノ粒子の作製

著者 (8件)： 北澤駿 (東京電機大) ,  加藤佳祐 (東京電機大) ,  佐藤慶介 (物質・材料研究機構) ,  藤岡宏樹 (東京慈恵会医大) ,  馬目佳信 (東京慈恵会医大) ,  深田直樹 (物質・材料研究機構) ,  平栗健二 (東京電機大) ,  山本健二 (国立国際医療研究セ)
資料名： 応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts. JSAP Spring Meeting (CD-ROM))
巻： 60th  ページ： ROMBUNNO.28P-B8-2  発行年： 2013年03月11日 
JST資料番号： Y0054B  ISSN： 2436-7613  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *ナノ粒子 ,  発光 ,  前処理 ,  分散媒質 ,  エッチング ,  溶液 ,  *光ルミネセンス ,  比率 ,  湿式法 ,  *ケイ素 ,  *シリコンナノ粒子 ,  発光材料
準シソーラス用語： *ウェットプロセス

分類 (2件)： 半導体薄膜  (BK14040E) ,  半導体のルミネセンス  (BM08092S)

タイトルに関連する用語 (3件)： ウェットプロセス ,  シリコンナノ粒子 ,  作製