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J-GLOBAL ID：201302293769713869   整理番号：13A1749512

広い範囲への適用を目的とした次世代電子線リソグラフィシステム”F7000”

Next Generation Electron Beam Lithography System “F7000” for Wide Range Applications

著者 (9件)： HAYAKAWA Hirofumi (Advantest Corp., Saitama, JPN) ,  TAKIZAWA Masahiro (Advantest Corp., Saitama, JPN) ,  KUROKAWA Masaki (Advantest Corp., Saitama, JPN) ,  TSUDA Akiyoshi (Advantest Corp., Saitama, JPN) ,  TAKIGAWA Masami (Advantest Corp., Saitama, JPN) ,  HAMAGUCHI Shin-ichi (Advantest Corp., Saitama, JPN) ,  YAMADA Akio (Advantest Corp., Saitama, JPN) ,  SAKAMOTO Kiichi (Advantest Corp., Saitama, JPN) ,  NAKAMURA Takayuki (Advantest Corp., Saitama, JPN)
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 8701  ページ： 870103.1-870103.7  発行年： 2013年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： F7000は1Xnmノードの要求を満たすシステムである。高分解能電子光学鏡筒とキャラクタプロジェクション機能と,LSI,フォトニクス,MEMSおよびその他の用途に適用可能な試料パレットとを備えている。用途に合わせて3つのタイプのパレットを調整可能である。2x2のマルチ鏡筒システムを用いたマーク位置合わせ試験およびキャラクタプロジェクション描画の結果を報告する。

シソーラス用語： *電子ビームリソグラフィー ,  *装置 ,  *パレット ,  *試料台 ,  *レジストレーション【画像】 ,  MEMS ,  工学 ,  LSI【IC】
準シソーラス用語： ナノフォトニクス ,  フォトニクス ,  *位置合せ ,  電子ビーム描画 ,  電子線リソグラフィー ,  電子線描画 ,  *描画装置

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (2件)： 次世代 ,  電子線リソグラフィ