文献

J-GLOBAL ID：201302296513547987   整理番号：13A0351075

イオン液体の真空エレクトロスプレイを利用する荷電液滴ビーム源の放出特性

Emission characteristics of a charged-droplet beam source using vacuum electrospray of an ionic liquid

著者 (4件)： FUJIWARA Yukio (National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol.(AIST), Ibaraki-ken, JPN) ,  SAITO Naoaki (National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol.(AIST), Ibaraki-ken, JPN) ,  NONAKA Hidehiko (National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol.(AIST), Ibaraki-ken, JPN) ,  ICHIMURA Shingo (National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol.(AIST), Ibaraki-ken, JPN)
資料名： Surface and Interface Analysis  (Surface and Interface Analysis)
巻： 45  号： 1  ページ： 517-521  発行年： 2013年01月 
JST資料番号： E0709A  ISSN： 0142-2421  CODEN： SIANDQ  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 二次イオン質量分析(SIMS)用の真空エレクトロスプレイビーム源を開発するために,筆者らは,4級アンモニウムイオン液体(N,N-ジエチル-N-メチル-N-(2-メトキシエチル)アンモニウム ビス(トロフルオロメタンスルホニル)アミド,DEME-TFSA)の真空エレクトロスプレイによるビーム特性を調べた。エレクトロスプレイ電流中にヒステリシス効果を確認した。生じる荷電滴のm/z値のキャピラリー電圧依存性を確認した。m/z値は,キャピラリー電圧と温度の増加と共に減少する傾向を示した。またm/z値は,流速の低下と共に減少した。実験結果を基にして核子当たりの入射粒子エネルギー,荷電滴の平均質量数,及び電荷数を見積もった。今後,イオン液体の真空エレクトロスプレイの実験パラメーターの最適化を行い,真空エレクトロスプレイビーム源を備えた直交飛行時間型二次イオン質量分析(TOF-SIMS)システムを開発する。

シソーラス用語： *イオン液体 ,  *二次イオン質量分析 ,  *イオン源 ,  エレクトロスプレイイオン化 ,  第四アンモニウム ,  イオンビーム ,  TOF-SIMS

分類 (1件)： 質量分析  (CC03013N)

タイトルに関連する用語 (7件)： イオン液体 ,  真空 ,  エレクトロスプレイ ,  荷電 ,  液滴 ,  ビーム ,  放出