特許
J-GLOBAL ID：201303000041228294
細胞培養基材の製造方法、細胞培養基材、およびそれを用いた細胞シートの製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
山下 昭彦
, 岸本 達人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-244402
公開番号（公開出願番号）：特開2013-099272
出願日： 2011年11月08日
公開日（公表日）： 2013年05月23日
要約：
【課題】本発明は、細胞接着領域および細胞接着阻害領域のパターンを有する細胞培養基材を容易かつ大量に形成可能な細胞培養基材の製造方法を提供することを主目的とする。【解決手段】本発明は、細胞接着阻害性の表面を有する高分子基材の表面にエネルギー照射を行い、上記高分子基材の表面の少なくとも一部を改質することで、細胞接着性を有する細胞接着領域を形成する細胞接着領域形成工程を有することを特徴とする細胞培養基材の製造方法を提供することにより、上記目的を達成する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
細胞接着阻害性の表面を有する高分子基材の表面にエネルギー照射を行い、前記高分子基材の表面の少なくとも一部を改質することで、細胞接着性を有する細胞接着領域を形成する細胞接着領域形成工程を有することを特徴とする細胞培養基材の製造方法。
IPC (3件)：
C12M 3/00
, C12N 11/02
, C12N 5/071
C12M3/00 A
, C12N11/02
, C12N5/00 202A
4B029AA03
, 4B029BB01
, 4B029BB11
, 4B029CC02
, 4B029EA16
, 4B033NA01
, 4B033NA11
, 4B033NA16
, 4B033NB02
, 4B033NB32
, 4B033NB63
, 4B033NC01
, 4B065AA90X
, 4B065BD25
, 4B065CA44
