特許
J-GLOBAL ID：201303001574138927

ポジ型レジスト組成物及びパターン形成方法

発明者：
前田 和規

前田 和規 について

, 
谷口 良輔

谷口 良輔 について

, 
橘 誠一郎

橘 誠一郎 について


出願人/特許権者：
信越化学工業株式会社

信越化学工業株式会社 について


代理人 (1件)： 好宮 幹夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-198478
公開番号（公開出願番号）：特開2013-061410
出願日： 2011年09月12日
公開日（公表日）： 2013年04月04日
要約：
【課題】解像性、焦点深度(DOF)特性に優れ、真円性に優れた矩形性の高いホールパターンを与えることのできるポジ型レジスト組成物、及びパターン形成方法の提供。【解決手段】(A)下記一般式(1-1)で示される繰り返し単位と、下記一般式(1-2)で示される繰り返し単位と、酸不安定基を有する繰り返し単位とを含み、酸によってアルカリ溶解性が向上する樹脂、(B)光酸発生剤、(C)塩基性化合物、及び(D)溶剤を含有するものであることを特徴とするポジ型レジスト組成物。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
(A)下記一般式(1-1)で示される繰り返し単位と、下記一般式(1-2)で示される繰り返し単位と、酸不安定基を有する繰り返し単位として、下記一般式(a-1)〜(a-3)のうち少なくとも1種の繰り返し単位、及び下記一般式(b-1)、(b-2)のうち少なくとも1種の繰り返し単位とを含み、酸によってアルカリ溶解性が向上する樹脂、(B)光酸発生剤、(C)塩基性化合物、及び(D)溶剤を含有するものであることを特徴とするポジ型レジスト組成物。
IPC (3件)：
G03F 7/039 ,  C08F 220/28 ,  H01L 21/027
FI (3件)：
G03F7/039 601 ,  C08F220/28 ,  H01L21/30 502R
Fターム (49件)：
2H125AF17P ,  2H125AF18P ,  2H125AF38P ,  2H125AH15 ,  2H125AH16 ,  2H125AH17 ,  2H125AH19 ,  2H125AJ13X ,  2H125AJ14X ,  2H125AJ65X ,  2H125AJ68X ,  2H125AJ69X ,  2H125AM22P ,  2H125AM66P ,  2H125AM94P ,  2H125AM99P ,  2H125AN39P ,  2H125AN42P ,  2H125AN51P ,  2H125AN65P ,  2H125AN86P ,  2H125AN88P ,  2H125BA01P ,  2H125BA26P ,  2H125BA32P ,  2H125CA12 ,  2H125CB09 ,  2H125CC03 ,  2H125CC15 ,  2H125FA03 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100AL08S ,  4J100AL08T ,  4J100BA11P ,  4J100BA15Q ,  4J100BA20Q ,  4J100BC03S ,  4J100BC08R ,  4J100BC09R ,  4J100BC26R ,  4J100BC53Q ,  4J100BC58P ,  4J100BC58Q ,  4J100BC83Q ,  4J100CA06 ,  4J100DA01 ,  4J100JA38
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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