特許
J-GLOBAL ID：200903066897440799

ラクトン含有化合物、高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法

発明者：
長谷川 幸士

長谷川 幸士 について

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西 恒寛

西 恒寛 について

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金生 剛

金生 剛 について

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橘 誠一郎

橘 誠一郎 について


出願人/特許権者：
信越化学工業株式会社

信越化学工業株式会社 について


代理人 (4件)： 小島 隆司 ,  重松 沙織 ,  小林 克成 ,  石川 武史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-206233
公開番号（公開出願番号）：特開2008-031298
出願日： 2006年07月28日
公開日（公表日）： 2008年02月14日
要約：
【解決手段】式(1)で示されるラクトン含有化合物。(R4はH又はCO2R5。R5はハロゲン原子又は酸素原子を有していてもよい1価炭化水素基。WはCH2、O又はS。)【効果】機能性材料、医薬・農薬等の原料として有用で、中でも波長500nm以下の放射線に対して優れた透明性を有し、感放射線レジスト材料のベース樹脂を製造するための単量体として有用である。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
下記一般式(1)で示されるラクトン含有化合物。
IPC (5件)：
C08F 20/26 ,  G03F 7/039 ,  H01L 21/027 ,  C07D 307/00 ,  C07D 493/08
FI (5件)：
C08F20/26 ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R ,  C07D307/00 ,  C07D493/08 A
Fターム (38件)：
2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA09 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC06 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BF02 ,  2H025BG00 ,  2H025CB13 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CB45 ,  2H025FA17 ,  4C037AA02 ,  4C071AA03 ,  4C071AA07 ,  4C071BB01 ,  4C071BB05 ,  4C071CC12 ,  4C071EE05 ,  4C071FF15 ,  4C071HH05 ,  4C071HH09 ,  4C071LL05 ,  4J100AL08P ,  4J100BA11P ,  4J100BA15P ,  4J100BB18P ,  4J100BC04P ,  4J100BC09P ,  4J100BC53P ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100JA38
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (6件)
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