特許
J-GLOBAL ID：201303004638140270
反射防止膜製造用モールド及びその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (7件)：
青木 篤
, 石田 敬
, 古賀 哲次
, 中村 和広
, 齋藤 都子
, 三間 俊介
, 塩川 和哉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-288811
公開番号（公開出願番号）：特開2013-137446
出願日： 2011年12月28日
公開日（公表日）： 2013年07月11日
要約：
【課題】形状追従性に優れた反射防止膜及びその製造用モールド並びにその製造方法を提供する。【解決手段】モールド表面上の凹凸形状の凸部間隔又は凹部間隔の平均ピッチが、40nm以上250nm以下であり、平均ピッチ分布における標準偏差が、前記平均ピッチの10%以上40%以下であり、かつ、前記モールド表面上の平坦部面積率が、0%以上50%以下である、反射防止膜製造用モールド。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
モールド表面上の凹凸形状の凸部間隔又は凹部間隔の平均ピッチが、40nm以上250nm以下であり、平均ピッチ分布における標準偏差が、前記平均ピッチの10%以上40%以下であり、かつ、前記モールド表面上の平坦部面積率が、0%以上50%以下である、反射防止膜製造用モールド。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (5件)：
2K009AA01
, 2K009AA12
, 2K009BB04
, 2K009CC26
, 2K009DD02
