特許
J-GLOBAL ID:201303004685714560

低硫黄/低芳香族留出油の製造

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 河備 健二
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-586851
特許番号:特許第4785250号
出願日: 1999年12月07日
請求項(抜粋):
【請求項1】 水素化留出油原料材を2段プロセスで水素処理する方法であって、 (a)前記水素化留出油原料材を、第2の反応段からカスケードされるワンススルー水素含有処理ガスの存在下に第1の反応段で反応させる工程 [但し、その際、前記第1の反応段は、水素化脱硫条件で運転される1つ以上の反応域を含み、各反応域は、水素化触媒床を含み、かつ、前記第2の反応段からカスケードされるワンススルー水素含有処理ガスは、第2の反応段からの蒸気流出物の全てを含む。]、 (b)得られた反応物を分離域に送る工程 [但し、その際、気相流および液相流が製造される。]、 (c)前記気相流をオーバーヘッドに集める工程、 (d)新規の水素含有処理ガスを第2の反応段に導入する工程、および (e)前記液相流を、上記(d)工程からの前記新規の水素含有処理ガスの存在下で第2の反応段に送る工程 [但し、その際、前記第2の反応段は、芳香族飽和条件で運転される1つ以上の反応域を含み、各反応域は、芳香族飽和触媒床を含み、かつ、前記新規の水素含有処理ガスは、前記液相流の流れと向流する前記反応段を通って送られる。] を含み、かつ、 前記液相流は、前記第2の反応段を通って送られる前に、液体をストリッピングガスと接触させることによってストリッピングされて、溶解した気相生成物の含有量が低減されることを特徴とする方法。
IPC (1件):
C10G 65/08 ( 200 6.01)
FI (1件):
C10G 65/08
引用特許:
審査官引用 (4件)
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