特許
J-GLOBAL ID:201303005355699315
排ガス浄化用触媒及びその製造方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
大川 宏
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-294609
公開番号(公開出願番号):特開2002-191989
特許番号:特許第4992172号
出願日: 2001年09月26日
公開日(公表日): 2002年07月10日
請求項(抜粋):
【請求項1】アルカリ金属を担持した第1酸化物担体と、貴金属を担持した第2酸化物担体とよりなり、該第1酸化物担体の比表面積が該第2酸化物担体の比表面積より大きく、該第1酸化物担体を含む下層と該第2酸化物担体を含む上層とからなる二層構造のコート層がハニカム基材表面に形成されてなることを特徴とする排ガス浄化用触媒。
IPC (11件):
B01J 35/10 ( 200 6.01)
, B01D 53/94 ( 200 6.01)
, B01J 23/42 ( 200 6.01)
, B01J 23/04 ( 200 6.01)
, B01J 32/00 ( 200 6.01)
, B01J 37/02 ( 200 6.01)
, B01J 37/04 ( 200 6.01)
, B01J 37/08 ( 200 6.01)
, F01N 3/08 ( 200 6.01)
, F01N 3/10 ( 200 6.01)
, F01N 3/28 ( 200 6.01)
FI (15件):
B01J 35/10 301 J
, B01D 53/36 104 A
, B01D 53/36 102 H
, B01J 23/42 ZAB A
, B01J 23/04 A
, B01J 32/00
, B01J 37/02 101 D
, B01J 37/02 301 C
, B01J 37/02 301 D
, B01J 37/04 101
, B01J 37/08
, F01N 3/08 A
, F01N 3/10 A
, F01N 3/28 301 C
, F01N 3/28 301 P
引用特許:
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