特許

J-GLOBAL ID：201303005396605562

無機構造物及びその製造方法、並びに無機薄膜の製造方法

発明者： 渡部 俊也 ,  吉田 直哉 ,  横西 遼祐 ,  今井 隆晶 ,  大倉 利典 ,  横田 幸信 ,  陳 長川 ,  柴山 優子 ,  中島 章 ,  古田 勤
出願人/特許権者： 国立大学法人 東京大学 ,  国立大学法人東京工業大学 ,  財団法人神奈川科学技術アカデミー
代理人 (3件)： 中島 淳 ,  加藤 和詳 ,  福田 浩志
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2010065177
公開番号（公開出願番号）：WO2011-027872
出願日： 2010年09月03日
公開日（公表日）： 2011年03月10日
要約：

本発明では、無機構造物素材を準備する工程と、前記無機構造物素材を水蒸気処理することにより、前記無機構造物素材の表面の水滴転落角を低下させる水蒸気処理工程と、を有する無機構造物の製造方法が提供される。

請求項（抜粋）：

無機構造物素材を準備する工程と、 前記無機構造物素材を水蒸気処理することにより、前記無機構造物素材の表面の水滴転落角を低下させる水蒸気処理工程と、 を有する無機構造物の製造方法。

IPC (8件)：

C01B 13/14 ,  C01G 25/02 ,  C01G 27/02 ,  C01G 23/04 ,  C01F 7/42 ,  C01B 33/149 ,  C01B 33/02 ,  C23C 14/58

FI (9件)：

C01B13/14 A ,  C01G25/02 ,  C01B13/14 Z ,  C01G27/02 ,  C01G23/04 C ,  C01F7/42 ,  C01B33/149 ,  C01B33/02 D ,  C23C14/58 Z

Fターム (55件)：

4G042DA01 ,  4G042DB05 ,  4G042DB27 ,  4G042DC03 ,  4G042DD02 ,  4G042DE03 ,  4G042DE12 ,  4G047CA02 ,  4G047CB05 ,  4G047CB08 ,  4G047CC03 ,  4G047CD02 ,  4G048AA02 ,  4G048AB04 ,  4G048AC08 ,  4G048AD02 ,  4G048AE05 ,  4G048AE08 ,  4G072AA01 ,  4G072AA25 ,  4G072BB09 ,  4G072GG01 ,  4G072GG02 ,  4G072GG03 ,  4G072HH01 ,  4G072HH14 ,  4G072NN09 ,  4G072NN11 ,  4G072QQ06 ,  4G072RR11 ,  4G072UU01 ,  4G072UU15 ,  4G076AA02 ,  4G076AB02 ,  4G076AC08 ,  4G076BA07 ,  4G076BF01 ,  4G076CA10 ,  4G076DA01 ,  4K029AA09 ,  4K029BA03 ,  4K029BA05 ,  4K029BA07 ,  4K029BA17 ,  4K029BA35 ,  4K029BA43 ,  4K029BA46 ,  4K029BA48 ,  4K029BB02 ,  4K029CA01 ,  4K029CA05 ,  4K029CA06 ,  4K029FA04 ,  4K029GA00 ,  4K029GA01