リソグラフィー用重合体溶液の製造方法、レジスト組成物の製造方法、およびパターンが形成された基板の製造方法

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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-143766
公開番号（公開出願番号）：特開2013-032508
出願日： 2012年06月27日
公開日（公表日）： 2013年02月14日
要約：

【課題】溶媒の冷却や溶解時の加熱を必要とせず、乾燥時間と溶解時間の合計の工程通過時間を短縮できるようにした、リソグラフィー用重合体溶液の製造方法を提供する。【解決手段】重合溶媒の存在下に、重合開始剤を使用して、単量体をラジカル重合させて重合反応溶液を得る重合工程と、前記重合反応溶液を重合体に対する貧溶媒と混合し、重合体を析出させて析出物を得る回収工程と、前記析出物を固形分含有量が65〜90質量%の範囲内となるように乾燥させて、微乾燥粉末を得る微乾燥工程と、前記微乾燥粉末を、重合体に対する良溶媒に溶解させる溶解工程とを有し、前記溶解工程において、前記微乾燥粉末の温度が0〜45°Cであり、前記良溶媒の温度が0〜40°Cである、リソグラフィー用重合体溶液を製造する。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

重合溶媒の存在下に、重合開始剤を使用して、単量体をラジカル重合させて重合反応溶液を得る重合工程と、前記重合反応溶液を重合体に対する貧溶媒と混合し、重合体を析出させて析出物を得る回収工程と、前記析出物を固形分含有量が65〜90質量%の範囲内となるように乾燥させて、微乾燥粉末を得る微乾燥工程と、前記微乾燥粉末を、重合体に対する良溶媒に溶解させる溶解工程とを有し、前記溶解工程において、前記微乾燥粉末の温度が0〜45°Cであり、前記良溶媒の温度が0〜40°Cである、リソグラフィー用重合体溶液の製造方法。

IPC (3件)：

C08F 6/06 , G03F 7/039 , G03F 7/26

FI (3件)：

C08F6/06 , G03F7/039 601 , G03F7/26

Fターム (45件)：

2H096AA25 , 2H096BA11 , 2H096EA05 , 2H096EA23 , 2H096GA08 , 2H096JA10 , 2H125AF17P , 2H125AF35P , 2H125AH17 , 2H125AH19 , 2H125AJ14X , 2H125AJ65X , 2H125AJ69X , 2H125AM22N , 2H125AM25N , 2H125AN39N , 2H125AN39P , 2H125CA12 , 2H125CB09 , 2H125CC03 , 2H125CC15 , 2H125EA01P , 4J100AJ02R , 4J100AL08P , 4J100AL08Q , 4J100AL08R , 4J100AL09R , 4J100BA03R , 4J100BA40R , 4J100BC02P , 4J100BC04P , 4J100BC09P , 4J100BC09Q , 4J100BC09R , 4J100BC43P , 4J100BC53Q , 4J100CA05 , 4J100DA01 , 4J100DA62 , 4J100EA05 , 4J100GC07 , 4J100GC16 , 4J100GC22 , 4J100GC25 , 4J100JA38

引用特許：

審査官引用 (3件)

フォトレジスト用樹脂溶液の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2009-048539 出願人：JSR株式会社
フォトレジスト用高分子化合物の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2009-121444 出願人：ダイセル化学工業株式会社
ArFエキシマレーザーレジスト用ポリマー溶液の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2005-364295 出願人：ダイセル化学工業株式会社

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