フォトレジスト用高分子化合物の製造方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：後藤幸久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-121444
公開番号（公開出願番号）：特開2010-270185
出願日： 2009年05月19日
公開日（公表日）： 2010年12月02日
要約：

【課題】金属成分、特にナトリウム及び鉄含有量の極めて少ないフォトレジスト用高分子化合物を提供する。【解決手段】本発明のフォトレジスト用高分子化合物の製造方法は、酸により脱離してアルカリ可溶性となる基を含む単量体(a)、ラクトン骨格を含む単量体(b)、及びヒドロキシル基を有する脂環式骨格を含む単量体(c)から選択された少なくとも1種の単量体を含む単量体混合物を重合して得られるポリマーを含む溶液を、アニオン交換基を有する多孔質膜で構成されたフィルターに通液し、次いでカチオン交換基を有する多孔質膜で構成されたフィルターに通液する工程を含む。カチオン交換基を有する多孔質膜で構成されたフィルターに通液するポリマー溶液中の金属含有量は、ポリマーに対して1000重量ppb以下であるのが好ましい。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

酸により脱離してアルカリ可溶性となる基を含む単量体(a)、ラクトン骨格を含む単量体(b)、及びヒドロキシル基を有する脂環式骨格を含む単量体(c)から選択された少なくとも1種の単量体を含む単量体混合物を重合して得られるポリマーを含む溶液を、アニオン交換基を有する多孔質膜で構成されたフィルターに通液し、次いでカチオン交換基を有する多孔質膜で構成されたフィルターに通液する工程を含むフォトレジスト用高分子化合物の製造方法。

IPC (4件)：

C08F 220/26 , G03F 7/039 , H01L 21/027 , C08F 6/00

FI (4件)：

C08F220/26 , G03F7/039 601 , H01L21/30 502R , C08F6/00

Fターム (33件)：

2H125AF17P , 2H125AF46P , 2H125AH15 , 2H125AH17 , 2H125AJ14X , 2H125AJ65X , 2H125AJ68X , 2H125AJ69X , 2H125CA12 , 2H125CB08 , 4J100AL08P , 4J100AL08Q , 4J100AL08R , 4J100BA02P , 4J100BA03R , 4J100BA20P , 4J100BC08P , 4J100BC09P , 4J100BC09R , 4J100BC53P , 4J100BC53Q , 4J100CA04 , 4J100CA05 , 4J100DA61 , 4J100EA01 , 4J100FA03 , 4J100FA19 , 4J100FA28 , 4J100FA34 , 4J100GC35 , 4J100GC37 , 4J100JA38 , 4J100JA46

引用特許：

審査官引用 (8件)

極性溶剤中でイオン交換触媒を用いてノボラック樹脂中の金属イオンを減少する方法、及びそれから得られるフォトレジスト組成物
公報種別：公表公報出願番号：特願平8-521104 出願人：ヘキスト・セラニーズ・コーポレイション
フォトレジスト用高分子化合物
公報種別：公開公報出願番号：特願2005-289975 出願人：ダイセル化学工業株式会社
特開昭56-104852

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