特許
J-GLOBAL ID：201303009821603167
大きな焦点深度による、周期的パターンの印刷方法および印刷装置
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
アインゼル・フェリックス=ラインハルト
, 久野 琢也
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-517661
公開番号（公開出願番号）：特表2013-531818
出願日： 2011年07月05日
公開日（公表日）： 2013年08月08日
要約：
線形構造の所望の周期的パターンを基板上に形成された感光性層に印刷するための方法であって、所望のパターンの周期の2倍の周期を備えていて、第1の方向に対して平行な線形構造のマスクパターンを有するマスクを準備するステップと、感光層を前記マスクに対して実質的に平行に、前記マスクパターンから分離して配列するステップと、単波長の実質的に単色光を発生するステップと、前記マスクパターンを前記光により、前記第1の方向に対して実質的に平行な第1の面で所定の角度範囲にわたり照明するステップであって、当該照明により、マスクを透過する照明の各角度において光がタルボット面間に横断強度分布の範囲を形成し、前記感光層に光照射野の部分を形成し、当該光照射野の部分の重ね合わせ部分が所望のパターンを印刷するステップと、を含む方法において、前記角度範囲は、前記波長、前記分離および前記周期に関連して選択され、前記部分の重ね合わせ部分は、1つの照明角度での光により形成された横断強度分布の範囲の平均に実質的に等価である、方法。
請求項（抜粋）：
線形構造の所望の周期的パターンを基板上に形成された感光性層に印刷するための方法であって、
a)所望のパターンの周期の2倍の周期を備えていて、第1の方向に対して平行な線形構造のマスクパターンを有するマスクを準備するステップと、
b)感光層を前記マスクに対して実質的に平行に、前記マスクパターンから分離して配列するステップと、
c)単波長の実質的に単色光を発生するステップと、
d)前記マスクパターンを前記光により、前記第1の方向に対して実質的に平行な第1の面で所定の角度範囲にわたり照明するステップであって、当該照明により、マスクを透過する照明の各角度において光がタルボット面間に横断強度分布の範囲を形成し、前記感光層に光照射野の部分を形成し、当該光照射野の部分の重ね合わせ部分が所望のパターンを印刷するステップと、
を含む方法において、
前記角度範囲は、前記波長、前記分離および前記周期に関連して選択され、前記部分の重ね合わせ部分は、1つの照明角度での光により形成された横断強度分布の範囲の平均に実質的に等価である、方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (2件)：
引用特許：
引用文献：
出願人引用 (1件)
-
SHADOW MOIRE USING NON-ZERO TALBOT DISTANCE AND APPLICATION OF DIFFRACTION THEORY TO MOIRE INTERFERO
審査官引用 (1件)
-
SHADOW MOIRE USING NON-ZERO TALBOT DISTANCE AND APPLICATION OF DIFFRACTION THEORY TO MOIRE INTERFERO
前のページに戻る
