特許
J-GLOBAL ID：200903031926036902

サンプル上に周期的及び/又は準周期的パターンを生成するためのシステム及び方法

発明者：
ソラク・ハルン・ヘ

ソラク・ハルン・ヘ について


出願人/特許権者：
パウル・シェラー・インスティトゥート

パウル・シェラー・インスティトゥート について


代理人 (3件)： 江崎 光史 ,  奥村 義道 ,  鍛冶澤 實
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-537166
公開番号（公開出願番号）：特表2008-517472
出願日： 2005年10月13日
公開日（公表日）： 2008年05月22日
要約：
この発明の課題は、周期が5〜100nmの範囲内の周期的及び準周期的なパターンを費用効率が高い形で実現するためのシステム及び方法を提供することである。勿論、このシステムは、この範囲外の周期を持つパターンに対しても一般的に適用することが可能である。この課題は、干渉リソグラフィ法を用いて、サンプル上に周期的及び/又は準周期的なパターンを生成するためのシステムであって、a)光子源と、b)所望のパターンに対応する周期的又は準周期的なパターンを有するマスクであって、光子源から第一の距離に配置された、或いはコリメータ、集光器、ミラー、レンズ、フィルター、アパーチャなどの中間の光学部品の後に配置されたマスクと、c)光子源と逆側でマスクから第二の距離に配置されたサンプルを保持するためのサンプルホルダーであって、強度分布がほぼ一定となり、距離により変わらなくなる範囲内となるように第二の距離を選定するか、或いはサンプル表面上に所望の平均的な強度分布が得られるように第二の距離を変化させるためのサンプルホルダーとを備えたシステムを開示した、この発明によって達成される。
請求項（抜粋）：
干渉リソグラフィ法を用いて、一つ又は複数のサンプル上に周期的及び/又は準周期的なパターンを生成するためのシステムであって、 a)光子源(P)と、 b)所望のパターンに対応する周期的又は準周期的なパターンを有するマスク(M)であって、光子源(P)から第一の距離に配置されているか、或いはコリメータ、集光器、ミラー、レンズ、フィルター、アパーチャなどの中間の光学部品の後に配置されているマスク(M)と、 c)光子源(P)と逆側でマスク(M)から第二の距離に配置されたサンプル(S)を保持するためのサンプルホルダーであって、強度分布がほぼ一定となり、距離により変わらなくなる範囲内に第二の距離を選定するか、或いはサンプルの表面上に所望の平均的な強度分布が得られるように第二の距離を変化させるためのサンプルホルダーと、 を備えたシステム。
IPC (1件)：
H01L 21/027
FI (1件)：
H01L21/30 528
Fターム (12件)：
5F046BA08 ,  5F046CB02 ,  5F046CB05 ,  5F046CB08 ,  5F046CB12 ,  5F046CB17 ,  5F046DA17 ,  5F046GA01 ,  5F046GA14 ,  5F046GB01 ,  5F046GB02 ,  5F046GC03
引用特許：
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (4件)
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引用文献：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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