微細構造を有する部材の製造方法、およびその製造方法に用いる露光方法

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小笠原史朗
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-149766
公開番号（公開出願番号）：特開2006-330085
出願日： 2005年05月23日
公開日（公表日）： 2006年12月07日
要約：

【課題】曲面上にサブミクロンの周期的な微細構造を容易に形成する製造方法を提供する。また、その製造方法に用いられる露光方法を提供する。【解決手段】周期Pの格子パターンを有するマスクを準備する準備工程と、マスクを介して、スペクトル幅がΔλである光を部材に照射する照射工程とを備え、照射工程において、マスクと部材との距離dをd≧2P2/Δλとすることにより、部材表面上に周期がP/2となる強度分布を形成する。これにより、曲面上にサブミクロンの周期的な微細構造を容易に形成することができる。【選択図】図6

請求項（抜粋）：

周期Pの格子パターンを有するマスクを準備する準備工程と、前記マスクを介して、スペクトル幅がΔλである光を部材に照射する照射工程とを備え、前記照射工程において、前記マスクと前記部材との距離dをd≧2P2/Δλとすることにより、前記部材表面上に周期がP/2となる強度分布を形成する、露光方法。

IPC (3件)：

G03F 7/20 , G03F 1/08 , G02B 1/11

FI (3件)：

G03F7/20 501 , G03F1/08 D , G02B1/10 A

Fターム (11件)：

2H095BA10 , 2H095BB02 , 2H095BC09 , 2H097BB02 , 2H097BB04 , 2H097CA15 , 2H097GA45 , 2H097LA17 , 2K009AA12 , 2K009BB14 , 2K009DD05

引用特許：

出願人引用 (8件)

カバーガラス及び光学部品
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-307671 出願人：セイコーエプソン株式会社
表面処理方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-088524 出願人：科学技術振興事業団, 高原浩滋
特開昭56-26438号公報

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