特許
J-GLOBAL ID：201303010197062090
高純度シリカの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
衡田 直行
, 北村 周彦
, 村地 俊弥
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-080577
公開番号（公開出願番号）：特開2013-209243
出願日： 2012年03月30日
公開日（公表日）： 2013年10月10日
要約：
【課題】高純度のシリカを、簡易にかつ低コストで製造しうる方法を提供する。【解決手段】(B)液分中のSi濃度が6.0質量%以上のケイ酸アルカリ水溶液と鉱酸を混合して固液分離を行い、SiO2を含む固形分を得るシリカ回収工程と、(C)前工程で得られたSiO2を含む固形分と酸溶液を混合して、pHが3.0未満の酸性スラリーを調製して、固液分離を行い、SiO2を含む固形分を得る第一の酸洗浄工程と、(D)前工程で得られたSiO2を含む固形分と水を混合して、スラリーを得る水洗浄工程と、(E)前工程で得られたスラリーと鉱酸を混合して、pHが3.0以下の酸性スラリーを調製して、固液分離を行い、SiO2を含む固形分を得る第二の酸洗浄工程と、を含む高純度シリカの製造方法。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
(B)液分中のSi濃度が6.0質量%以上のケイ酸アルカリ水溶液と鉱酸を混合して、液分中のSiを非ゲル状の沈降性シリカとして析出させた後、固液分離を行い、SiO2を含む固形分と不純物を含む液分を得る、シリカ回収工程と、
(C)工程(B)で得られたSiO2を含む固形分と酸溶液を混合して、pHが3.0未満の酸性スラリーを調製し、上記固形分中に残存する不純物を溶解させた後、該酸性スラリーを固液分離して、SiO2を含む固形分と不純物を含む液分を得る、第一の酸洗浄工程と、
(D)工程(C)で得られたSiO2を含む固形分と水を混合して、上記固形分中に残存する不純物を溶解させたスラリーを得る、水洗浄工程と、
(E)工程(D)で得られたスラリーと鉱酸を混合して、pHが3.0以下の酸性スラリーを調製し、工程(D)で得られたスラリーに含まれる固形分中に残存する不純物を溶解させた後、該酸性スラリーを固液分離して、SiO2を含む固形分と不純物を含む液分を得る、第二の酸洗浄工程と、
を含むことを特徴とする高純度シリカの製造方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (16件)：
4G072AA25
, 4G072BB05
, 4G072EE02
, 4G072GG02
, 4G072GG03
, 4G072HH21
, 4G072HH22
, 4G072HH36
, 4G072MM02
, 4G072MM22
, 4G072MM23
, 4G072MM24
, 4G072MM26
, 4G072RR12
, 4G072TT01
, 4G072TT19
出願人引用 (8件)
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高純度シリカの製造方法
公報種別：公開公報
出願番号：特願2010-237721
出願人：太平洋セメント株式会社
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特開昭60-204612
-
特開昭62-072517
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審査官引用 (8件)
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高純度シリカの製造方法
公報種別：公開公報
出願番号：特願2010-237721
出願人：太平洋セメント株式会社
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特開昭60-204612
-
特開昭62-072517
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