成膜装置および成膜方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：藤島洋一郎
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-123981
公開番号（公開出願番号）：特開2002-322554
特許番号：特許第4706121号
出願日： 2001年04月23日
公開日（公表日）： 2002年11月08日
請求項（抜粋）：

【請求項1】基板の表面に薄膜パターンを形成するための成膜装置であって、前記基板に対向配置された1つの成膜源と、前記成膜源から放出された成膜物質が通過するための複数の開口を有し、前記成膜源と前記基板との間に前記基板から離間して配設されたマスクと、前記マスクを支持し、前記基板と前記成膜源との間で前記マスクを移動させる支持体とを備え、前記マスクの開口の幅は前記薄膜パターンの幅より小さい、成膜装置。

IPC (3件)：