所定のフォトリソグラフィ工程に従って基板を加工する装置

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：恩田博宣 , 恩田誠 , 本田淳 , 池上美穂
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-200558
公開番号（公開出願番号）：特開2000-114166
特許番号：特許第4722244号
出願日： 1999年07月14日
公開日（公表日）： 2000年04月21日
請求項（抜粋）：

【請求項1】所定のフォトリソグラフィ工程に従って基板を加工する装置であって、該基板が供給されるカセットから装填される、装填ステーションと、前記基板がフォトレジスト材料で被覆される、コーティングステーションと、該フォトレジストコーティングが所定のパターンを有するマスクを通じて光に露光され、フォトレジストコーティングの上にマスクの潜像を形成する、露光ステーションと、該潜像が現像される、現像ステーションと、基板が荷おろしされる、荷おろしステーションと、全体的な制御装置と、前記荷おろしステーションにて排出されるカセット内に荷おろしされる前に、前記フォトリソグラフィ工程の所定のパラメータに対して基板を監視する監視ステーションとを備える装置において、前記監視ステーションは、監視の間に前記基板を支持するための真空支持アセンブリと、前記基板を照射するとともに、同基板からの光を集めて同光を示すデータを発生させる光学測定装置と、前記光学測定装置に接続され、前記集められた光を示す前記データを受け取って処理することにより、前記基板の少なくとも1つのパラメータを測定する制御装置であって、データ交換のために前記全体的な制御装置に接続され、中央処理装置と画像処理手段とを含む制御装置とを備え、前記光学測定装置が、前記光学測定装置を前記支持アセンブリの上の基板に対してアライメントさせる低倍率チャネルと、基板が前記現像ステーションを通過した後で且つ荷おろしステーションに達する前に、フォトリソグラフィ工程の前記所定のパラメータを測定する高倍率チャネルとを備え、前記高倍率チャネルが、監視ステーション内にて基板の表面に対して光源の入射角度を正確に測定し得るように光学ヘッド内に設けられた測定装置を更に備えることを特徴とする装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ( 200 6.01) , G03F 7/26 ( 200 6.01)

FI (3件)：

H01L 21/30 514 E , H01L 21/30 516 Z , G03F 7/26 501

引用特許：

審査官引用 (10件)

特開平2-002605
特開平2-002605
露光パターン形成装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-048909 出願人：株式会社日立製作所

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