特許
J-GLOBAL ID：201303017584493478

水処理装置

発明者：
田畑 洋輔

田畑 洋輔 について

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岩間 俊之

岩間 俊之 について

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清原 洋太

清原 洋太 について

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戸苅 淳

戸苅 淳 について

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倉地 誠

倉地 誠 について

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荒谷 裕治

荒谷 裕治 について


出願人/特許権者：
フジクリーン工業株式会社

フジクリーン工業株式会社 について


代理人 (2件)： 岩田 哲幸 ,  池田 敏行
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-073815
公開番号（公開出願番号）：特開2013-202492
出願日： 2012年03月28日
公開日（公表日）： 2013年10月07日
要約：
【課題】電解処理を行うための電解領域を備える水処理装置において、電解処理性能の低下を防止する。【解決手段】水処理装置100は、収容空間101aを有する処理槽本体101と、被処理水の所定の水処理を行うべく収容空間101aに、被処理水を固液分離するための一次処理槽110,130と、一次処理槽110,130で固液分離された後の水を好気処理するための二次処理槽140,150とを配置し、一次処理槽110に配置された電解槽120と、電解処理のために電解槽120内の水に浸漬される一対の金属電極125,125と、金属電極125,125に対する給電を制御するための制御装置127とを有し、電解処理で生じた電解汚泥が電解槽120内の槽底部に堆積するのを阻止するとともに、一次処理槽110の浮遊性汚泥が電解領域120内へと流入するのを阻止することによって、電解処理の性能低下を抑制する抑制機構と、を含む。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
収容空間を有する処理槽本体と、 被処理水の所定の水処理を行うべく前記収容空間にそれぞれ区画配置された複数の水処理領域と、 前記複数の水処理領域のうち、被処理水を固液分離処理するための固液分離処理領域と、 前記複数の水処理領域のうち、前記固液分離処理領域で固液分離処理された後の水を好気処理するための好気処理領域と、 前記固液分離処理領域に配置された電解領域と、 電解処理のために前記電解領域内の水に浸漬される金属電極と、 前記電解領域内に電解処理前の水を流入させるための流入口と、 前記電解領域から電解処理後の水を流出させるための流出口と、 前記金属電極に対する給電を制御するための制御装置と、 前記金属電極による電解処理で生じた電解汚泥が前記電解領域内の槽底部に堆積するのを阻止するとともに、前記固液分離処理領域の浮遊性汚泥が前記電解領域内へと流入するのを阻止することによって、前記電解処理の性能低下を抑制する抑制機構と、 を含むことを特徴とする水処理装置。
IPC (3件)：
C02F 1/463 ,  C02F 1/465 ,  C02F 3/00
FI (2件)：
C02F1/46 102 ,  C02F3/00 B
Fターム (17件)：
4D027AB07 ,  4D027AB11 ,  4D027AB14 ,  4D061DA08 ,  4D061DB11 ,  4D061EA02 ,  4D061EB02 ,  4D061EB05 ,  4D061EB14 ,  4D061EB16 ,  4D061EB19 ,  4D061EB28 ,  4D061EB33 ,  4D061EB39 ,  4D061ED06 ,  4D061FA20 ,  4D061GC16
引用特許：
出願人引用 (15件)
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審査官引用 (4件)
  • 汚水処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-191670   出願人：三洋電機株式会社
  • 汚水処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-072274   出願人：三洋電機株式会社
  • 汚水処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-119412   出願人：三洋電機株式会社
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