特許
J-GLOBAL ID:201303017858985437
レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
新樹グローバル・アイピー特許業務法人
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2012-143075
公開番号(公開出願番号):特開2013-041249
出願日: 2012年06月26日
公開日(公表日): 2013年02月28日
要約:
【課題】優れた解像度及びラインエッジラフネス(LER)で、欠陥の発生が少ないレジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供する。【解決手段】式(I)で表される構造単位を有する樹脂、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂(但し、式(I)で表される構造単位を含まない)及び酸に不安定な基を有する酸発生剤を含有するレジスト組成物。[式中、A14は、ハロゲン原子を有していてもよい脂肪族炭化水素基を表す。]【選択図】なし
請求項(抜粋):
式(I)で表される構造単位を有する樹脂、
アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂(但し、式(I)で表される構造単位を含まない)、及び
酸に不安定な基を有する酸発生剤を含有するレジスト組成物。
IPC (5件):
G03F 7/039
, G03F 7/004
, H01L 21/027
, C08F 20/22
, C08F 20/32
FI (5件):
G03F7/039 601
, G03F7/004 503A
, H01L21/30 502R
, C08F20/22
, C08F20/32
Fターム (50件):
2H125AF17P
, 2H125AF18P
, 2H125AF38P
, 2H125AF45P
, 2H125AF70P
, 2H125AH04
, 2H125AH17
, 2H125AH19
, 2H125AH23
, 2H125AH24
, 2H125AH29
, 2H125AJ14X
, 2H125AJ65X
, 2H125AJ69X
, 2H125AL03
, 2H125AL11
, 2H125AM22P
, 2H125AM99P
, 2H125AN38P
, 2H125AN39P
, 2H125AN45P
, 2H125AN54P
, 2H125AN65P
, 2H125BA02P
, 2H125BA26P
, 2H125CA12
, 2H125CB09
, 2H125CC03
, 2H125CC15
, 2H125FA03
, 4J100AL08P
, 4J100AL08Q
, 4J100BA15P
, 4J100BA15Q
, 4J100BB12P
, 4J100BB12Q
, 4J100BB13P
, 4J100BC03P
, 4J100BC03Q
, 4J100BC04P
, 4J100BC04Q
, 4J100BC08P
, 4J100BC08Q
, 4J100BC09Q
, 4J100BC54P
, 4J100CA01
, 4J100CA04
, 4J100DA01
, 4J100DA39
, 4J100JA38
引用特許:
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