特許

J-GLOBAL ID：201303018469750048

感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いたレジスト膜、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法、及び、電子デバイス

発明者： 越島 康介 ,  高橋 秀知 ,  山口 修平 ,  山本 慶
出願人/特許権者： 富士フイルム株式会社
代理人 (3件)： 高松 猛 ,  尾澤 俊之 ,  長谷川 博道
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-207016
公開番号（公開出願番号）：特開2013-068776
出願日： 2011年09月22日
公開日（公表日）： 2013年04月18日
要約：

【課題】 超微細の孔径(例えば、60nm以下)を有し、かつ、断面形状に優れるホールパターンを、局所的なパターン寸法の均一性が優れた状態で形成可能な、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いたレジスト膜、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法、及び、電子デバイスを提供する。【解決手段】 (P)下記一般式(I)で表される繰り返し単位(a)を、全繰り返し単位に対して30モル%以上含有する樹脂、(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び、(G)フッ素原子及び珪素原子の少なくとも一方を有するとともに、塩基性を有する又は酸の作用により塩基性が増大する化合物を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。 【化1】 上記一般式(I)中、R0は、水素原子又はメチル基を表す。 R1、R2及びR3は、各々独立に、直鎖状又は分岐状のアルキル基を表す。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

(P)下記一般式(I)で表される繰り返し単位(a)を、全繰り返し単位に対して30モル%以上含有する樹脂、(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び、(G)フッ素原子及び珪素原子の少なくとも一方を有するとともに、塩基性を有する又は酸の作用により塩基性が増大する非感光性化合物を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。

IPC (4件)：

G03F 7/038 ,  G03F 7/004 ,  G03F 7/32 ,  H01L 21/027

FI (5件)：

G03F7/038 601 ,  G03F7/004 503A ,  G03F7/004 501 ,  G03F7/32 ,  H01L21/30 502R

Fターム (81件)：

2H096AA25 ,  2H096BA01 ,  2H096EA05 ,  2H096EA23 ,  2H096GA03 ,  2H096GA18 ,  2H096JA04 ,  2H096JA08 ,  2H125AF17P ,  2H125AF21P ,  2H125AF36P ,  2H125AF38P ,  2H125AF45P ,  2H125AF70P ,  2H125AH04 ,  2H125AH11 ,  2H125AH12 ,  2H125AH15 ,  2H125AH17 ,  2H125AH19 ,  2H125AH22 ,  2H125AH24 ,  2H125AH25 ,  2H125AH29 ,  2H125AJ12X ,  2H125AJ13X ,  2H125AJ14X ,  2H125AJ16Y ,  2H125AJ38X ,  2H125AJ63X ,  2H125AJ64X ,  2H125AJ65X ,  2H125AJ66X ,  2H125AJ67X ,  2H125AJ68X ,  2H125AJ69X ,  2H125AJ85Y ,  2H125AJ87Y ,  2H125AJ95Y ,  2H125AJ98X ,  2H125AL03 ,  2H125AL11 ,  2H125AM11P ,  2H125AM12P ,  2H125AM15P ,  2H125AM22P ,  2H125AM23P ,  2H125AM27P ,  2H125AM30P ,  2H125AM32P ,  2H125AM57P ,  2H125AM66P ,  2H125AM86P ,  2H125AM99P ,  2H125AN08P ,  2H125AN11P ,  2H125AN37P ,  2H125AN38P ,  2H125AN39P ,  2H125AN42P ,  2H125AN45P ,  2H125AN50P ,  2H125AN51P ,  2H125AN54P ,  2H125AN57P ,  2H125AN62P ,  2H125AN65P ,  2H125AN67P ,  2H125AN78P ,  2H125AN82P ,  2H125AN88P ,  2H125BA01P ,  2H125BA26P ,  2H125BA32P ,  2H125BA33P ,  2H125CA12 ,  2H125CB09 ,  2H125CC01 ,  2H125CC15 ,  2H125FA03 ,  2H125FA05

引用特許：

審査官引用 (5件)

• ポジ型レジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-339439   出願人：富士写真フイルム株式会社
• パターン形成方法、化学増幅型レジスト組成物及びレジスト膜
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2010-003386   出願人：富士フイルム株式会社
• 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物並びに該組成物を用いたレジスト膜及びパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2010-142061   出願人：富士フイルム株式会社
• パターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2010-227196   出願人：信越化学工業株式会社
• ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-097975   出願人：富士写真フイルム株式会社