感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物並びに該組成物を用いたレジスト膜及びパターン形成方法

発明者： , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：高松猛 , 矢澤清純
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-142061
公開番号（公開出願番号）：特開2011-070162
出願日： 2010年06月22日
公開日（公表日）： 2011年04月07日
要約：

【課題】ラインウィズスラフネス、デプスオブフォーカスの性能が改良され、線幅45nm以下の液浸プロセスにも適合した感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。【解決手段】プロトンアクセプター性官能基を有し、かつ、活性光線又は放射線の照射により分解してプロトンアクセプター性が低下、消失、又はプロトンアクセプター性から酸性に変化した化合物を発生する化合物(PA)を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物であって、前記化合物(PA)のアセトニトリル溶媒中で測定した波長193nmにおけるモル吸光係数εが、55000以下である感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びこれを用いたパターン形成方法。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

プロトンアクセプター性官能基を有し、かつ、活性光線又は放射線の照射により分解してプロトンアクセプター性が低下、消失、又はプロトンアクセプター性から酸性に変化した化合物を発生する化合物(PA)を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物であって、前記化合物(PA)のアセトニトリル溶媒中で測定した波長193nmにおけるモル吸光係数εが、55000以下である感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。

IPC (3件)：

G03F 7/004 , G03F 7/039 , C08F 20/28

FI (3件)：

G03F7/004 503A , G03F7/039 601 , C08F20/28

Fターム (70件)：

2H125AF16P , 2H125AF17P , 2H125AF18P , 2H125AF19P , 2H125AF21P , 2H125AF36P , 2H125AF38P , 2H125AF39P , 2H125AF41P , 2H125AF45P , 2H125AF70P , 2H125AH15 , 2H125AH17 , 2H125AH18 , 2H125AH19 , 2H125AH22 , 2H125AH24 , 2H125AJ14X , 2H125AJ65X , 2H125AJ68X , 2H125AJ69X , 2H125AL03 , 2H125AL11 , 2H125AM86P , 2H125AM99P , 2H125AN08P , 2H125AN38P , 2H125AN39P , 2H125AN42P , 2H125AN45P , 2H125AN54P , 2H125AN57P , 2H125AN64P , 2H125AN65P , 2H125AN86P , 2H125BA01P , 2H125BA02P , 2H125BA26P , 2H125BA32P , 2H125BA33P , 2H125CA12 , 2H125CB09 , 2H125CC03 , 2H125CC15 , 2H125CD22P , 2H125CD35 , 2H125FA03 , 4H006AA01 , 4H006AA03 , 4H006AB81 , 4H006AB92 , 4J100AL08P , 4J100AL08Q , 4J100AL08R , 4J100BA03Q , 4J100BA40P , 4J100BC03R , 4J100BC04R , 4J100BC08P , 4J100BC09Q , 4J100BC09R , 4J100BC53P , 4J100CA03 , 4J100DA01 , 4J100DA04 , 4J100DA39 , 4J100FA03 , 4J100FA19 , 4J100GC26 , 4J100JA38

引用特許：

審査官引用 (6件)

感光性組成物、該感光性組成物に用いる化合物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2005-021344 出願人：富士写真フイルム株式会社
ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2007-264726 出願人：富士フイルム株式会社
ポジ型レジスト組成物およびパターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2008-076600 出願人：富士フイルム株式会社

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