特許
J-GLOBAL ID:201303018934922853
アセタール化合物の製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (1件):
森田 順之
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2011-251932
公開番号(公開出願番号):特開2013-107831
出願日: 2011年11月17日
公開日(公表日): 2013年06月06日
要約:
【課題】触媒添加、触媒除去、触媒製造を必要とせず、かつ高選択性、高収率でアセタール化合物を製造する方法を提供する。【解決手段】カルボニル基を有する有機化合物(以下、「カルボニル化合物」という。)とヒドロキシ基を含む有機化合物(以下、「ヒドロキシ化合物」という。)とを含む混合液(以下、「混合液」という。)からアセタール化合物を製造する方法において、「混合液」を、「ヒドロキシ化合物」の臨界温度未満に保持しながら、超臨界二酸化炭素または亜臨界二酸化炭素と接触させることを特徴とするアセタール化合物の製造方法。【選択図】なし
請求項(抜粋):
カルボニル基を有する有機化合物(以下、「カルボニル化合物」という。)とヒドロキシ基を含む有機化合物(以下、「ヒドロキシ化合物」という。)とを含む混合液(以下、「混合液」という。)からアセタール化合物を製造する方法において、「混合液」を、「ヒドロキシ化合物」の臨界温度未満に保持しながら、超臨界二酸化炭素または亜臨界二酸化炭素と接触させることを特徴とするアセタール化合物の製造方法。
IPC (4件):
C07C 41/56
, C07C 43/307
, C07C 43/303
, C07D 317/12
FI (4件):
C07C41/56
, C07C43/307
, C07C43/303
, C07D317/12
Fターム (5件):
4H006AA02
, 4H006AC43
, 4H006BB30
, 4H006BC10
, 4H006BC11
引用特許:
引用文献:
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