特許

J-GLOBAL ID：201303019262080316

表面処理蛍光体の製造方法及び表面処理蛍光体

発明者： 孫 仁徳 ,  中谷 康弘 ,  伊藤 和志 ,  大村 貴宏
出願人/特許権者： 積水化学工業株式会社
代理人 (1件)： 特許業務法人 安富国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-176299
公開番号（公開出願番号）：特開2013-040236
出願日： 2011年08月11日
公開日（公表日）： 2013年02月28日
要約：

【課題】効率的、経済的な方法で耐湿性が著しく改善された表面処理蛍光体を製造することが可能な表面処理蛍光体の製造方法及び該表面処理蛍光体の製造方法を用いて得られる表面処理蛍光体、蛍光体含有樹脂組成物及びLED発光装置を提供する。【解決手段】アルカリ土類金属の珪酸塩を含有する蛍光体と表面処理層とを有する表面処理蛍光体を製造する方法であって、硫酸塩、リン酸塩、炭酸塩及びフッ化物からなる群より選択される少なくとも1種の水溶性化合物を含有する表面処理液と、前記蛍光体とを接触させることにより、表面処理層を形成する工程を有する表面処理蛍光体の製造方法。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

アルカリ土類金属の珪酸塩を含有する蛍光体と表面処理層とを有する表面処理蛍光体を製造する方法であって、 硫酸塩、リン酸塩、炭酸塩及びフッ化物からなる群より選択される少なくとも1種の水溶性化合物を含有する表面処理液と、前記蛍光体とを接触させることにより、表面処理層を形成する工程を有する ことを特徴とする表面処理蛍光体の製造方法。

IPC (3件)：

C09K 11/59 ,  C09K 11/08 ,  H01L 33/50

FI (3件)：

C09K11/59 ,  C09K11/08 G ,  H01L33/00 410

Fターム (17件)：

4H001CC08 ,  4H001CC09 ,  4H001CC12 ,  4H001XA08 ,  4H001XA12 ,  4H001XA14 ,  4H001XA20 ,  4H001XA38 ,  4H001XA56 ,  4H001XB21 ,  4H001YA17 ,  4H001YA63 ,  5F041AA43 ,  5F041DA19 ,  5F041DA34 ,  5F041DA42 ,  5F041DA43

引用特許：

審査官引用 (4件)

• ホスフェート処理珪酸塩蛍光体
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-272881   出願人：オスラム・シルバニア・インコーポレイテッド
• 蛍光体表面処理方法、蛍光体、蛍光体含有組成物、発光装置、画像表示装置、および照明装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-296239   出願人：三菱化学株式会社
• 表面改質されたシリケート発光体を有する発光装置
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2013-524040   出願人：ソウルセミコンダクターカンパニーリミテッド
• 表面改質されたシリケート発光体
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2013-524029   出願人：ソウルセミコンダクターカンパニーリミテッド, ライテック-エルピーゲーエムベーハー