特許
J-GLOBAL ID:201303020053426360

照射中に線量付与を制御する方法及び装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (5件): 大塚 康徳 ,  高柳 司郎 ,  大塚 康弘 ,  木村 秀二 ,  下山 治
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2012-540330
公開番号(公開出願番号):特表2013-512014
出願日: 2010年08月31日
公開日(公表日): 2013年04月11日
要約:
本発明は、可動標的ボリュームを走査するのに利用するエネルギービーム、特に細針状イオンビームによる体内の標的ボリュームの照射中に線量付与を制御する方法に関する。更に本発明は、方法を実現する構成要素を備える照射装置に関する。i番目のグリッド位置を照射する前に、照射プロセス中の線量が移動データを使用して判定され、この線量は既に前のグリッド位置(1<=k<i)の照射中のi番目のグリッド位置を含んでいる。その後、前のグリッド位置(1<=k<i)の照射中にi番目のグリッド位置を既に含む判定された線量に依存してi番目のグリッド位置に対する補償値が算出され、i番目のグリッド位置について決定された補償された粒子フルエンス(Ficomp)によりi番目のグリッド位置を照射するために、i番目のグリッド位置に対する補償値及び公称粒子フルエンスに依存してi番目のグリッド位置についての補償された粒子フルエンス(Ficomp)が算出される。
請求項(抜粋):
身体(30)中の移動する標的ボリューム(32)への、走査法を用いたエネルギビーム(27)の照射中に、線量付与を制御する方法であって、 前記標的ボリューム(32)の複数のグリッド位置(i,1≦i≦N)を含む照射計画(46)が、1以上の照射サイクル(j,1≦j≦J)について作成されており、 グリッド位置に依存する公称粒子フルエンスが、前記グリッド位置のそれぞれの前記照射について、前記照射計画(46)において定義されており、 前記身体(30)の動き(33)が、前記照射中のグリッド位置の動きを決定するために、前記照射中に捕捉され、 グリッド位置に依存する線量が対応するグリッド位置に付与されるように、グリッド位置の関数として制御された粒子エネルギー及び粒子フルエンスを備える前記ビーム(27)によって、それぞれの前記グリッド位置が走査され、 前記走査は、 i1)前記複数のグリッド位置のうちのi番目のグリッド位置の照射に先立って、前のグリッド位置(k,1≦k<i)の照射中にi番目の位置で既に受け取られている線量が、前記動きのデータを用いて、前記照射サイクル中に算出される工程と、 i2)i番目のグリッド位置の照射に先立って、前記前のグリッド位置(k,1≦k<i)の照射中にi番目のグリッド位置が既に受け取ったと判定された前記線量に基づいて、i番目のグリッド位置についての補償値(ΔDi)が算出される工程と、 i3)i番目のグリッド位置の照射に先立って、i番目のグリッド位置についての前記補償値(ΔDi)及びi番目のグリッド位置についての前記公称粒子フルエンス(Finom)に基づいて、補償された粒子フルエンス(Ficomp)がi番目のグリッド位置について算出される工程と、 i4)i番目のグリッド位置が、i番目のグリッド位置について決定された前記補償された粒子フルエンス(Ficomp)で照射される工程と、を含み、 前記工程i1)からi4)が、前記複数のグリッド位置(1≦i≦N)について実行されることを特徴とする方法。
IPC (1件):
A61N 5/10
FI (2件):
A61N5/10 P ,  A61N5/10 H
Fターム (10件):
4C082AA01 ,  4C082AC05 ,  4C082AE03 ,  4C082AG12 ,  4C082AG33 ,  4C082AJ08 ,  4C082AJ14 ,  4C082AN03 ,  4C082AP03 ,  4C082AP08
引用特許:
審査官引用 (5件)
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引用文献:
審査官引用 (1件)
  • 4D treatment planning for scanned ion beams

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