特許
J-GLOBAL ID:201303020836088998
レーザーコンプトン散乱装置
発明者:
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
中川 邦雄
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2012-021690
公開番号(公開出願番号):特開2013-161609
出願日: 2012年02月03日
公開日(公表日): 2013年08月19日
要約:
【課題】バースト増幅によって大強度レーザーパルスの生成及び蓄積ができる簡易で小型のレーザーコンプトン散乱装置を提供する。【解決手段】レーザーの自己発振増幅を行うため、少なくとも、励起レーザー光源と、RF強度変調器、ファイバ増幅器1、光共振器、調整ケーブル、及びファイバ増幅器2が順番に環状に連結して成る光周回路と、及び該光周回路の外に連結されて設けられたバースト増幅のためのレーザー耐久性の外部共振器からなり、外部共振器においてバースト増幅と蓄積を行い、該外部共振器の中でレーザーコンプトン散乱ができるレーザーコンプトン散乱装置の構成とした。【選択図】図11
請求項(抜粋):
レーザーの自己発振増幅を行うため、少なくとも、励起レーザー光源と、RF強度変調器、ファイバ増幅器1、光共振器、調整ケーブル、及びファイバ増幅器2が順番に環状に連結して成る光周回路と、及び該光周回路の外に連結されて設けられたバースト増幅のためのレーザー耐久性の外部共振器から成る装置であり、
前記光周回路においてレーザーの自己発振増幅が起動されることによって前記光共振器に増幅レーザーが蓄積され、
この蓄積レーザーの一部が前記レーザー耐久性の外部共振器に伝送され、該外部共振器においてバースト増幅と蓄積が行われ、
該外部共振器の中でレーザーコンプトン散乱が行われることを特徴とする
レーザーコンプトン散乱装置。
IPC (2件):
FI (2件):
Fターム (19件):
4C092AA02
, 4C092AB10
, 4C092AC08
, 5F172AE12
, 5F172AF06
, 5F172AM08
, 5F172CC04
, 5F172CC07
, 5F172DD03
, 5F172EE13
, 5F172EE17
, 5F172NN14
, 5F172NP04
, 5F172NQ23
, 5F172NQ35
, 5F172NQ47
, 5F172NQ49
, 5F172NQ50
, 5F172ZZ14
引用特許:
前のページに戻る