特許
J-GLOBAL ID:201303023902837467

基板処理装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 中本 菊彦
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2012-034945
公開番号(公開出願番号):特開2013-171983
出願日: 2012年02月21日
公開日(公表日): 2013年09月02日
要約:
【課題】メンテナンスの作業効率の向上及び二次災害の防止を図れるようにした基板処理装置を提供すること。【解決手段】処理ブロックS3は、液処理モジュール21、熱処理モジュール40、処理棚ユニットU8と、搬送領域R内に配設され、上記モジュールと処理棚ユニットに対してウエハWを受け渡しする搬送アームA1と、処理棚ユニットと液処理モジュールにウエハを受け渡す処理用受渡しアーム31を具備する。インターフェイスブロックS4は、インターフェイスアーム33と、インターフェイスアームの移動機構35を具備する。上記アーム、搬送アーム及びインターフェイスアームの移動機構を制御する制御コンピュータ90により、搬送アームの装置外部に露呈する点検・交換位置又は待機位置への移動を行い、処理ブロックの搬送領域内への作業者の進入を可能にすべく、インターフェイスアーム、処理棚ユニットの移動及び処理用受渡しアームの上昇を行う。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
キャリアブロックと、該キャリアブロックのキャリアから搬送された基板を処理する処理ブロックと、該処理ブロックに連設されて処理ブロックと露光装置とを接続するインターフェイスブロックと、を備える基板処理装置において、 上記処理ブロックは、基板に処理液を供給する複数の液処理部を積層する液処理モジュールと、上記液処理モジュールと対向する位置に配置される複数の熱処理部を積層する熱処理モジュールと、上記液処理モジュールと熱処理モジュールとの間に形成される搬送領域における上記インターフェイスブロック側に配置されると共に、インターフェイスブロック内に移動可能な複数の基板の載置部を積層する処理棚ユニットと、上記搬送領域内に移動自在に配設され、上記液処理モジュール、熱処理モジュール及び処理棚ユニットに対して基板を受け渡しする搬送アームと、上記処理棚ユニットの近傍に配置され、処理棚ユニットと上記液処理モジュールとの間で基板を受け渡す処理用受渡しアームと、を具備し、 上記インターフェイスブロックは、上記処理棚ユニットと露光装置との間で基板の受け渡しを行うインターフェイスアームと、該インターフェイスアームを上記インターフェイスブロックの外部に移動する移動機構と、を具備し、 上記搬送アーム、処理用受渡しアーム、インターフェイスアーム、搬送アームの移動機構及びインターフェイスアームの移動機構を制御する制御手段からの信号に基づいて、上記搬送アームの装置外部に露呈する点検・交換位置又は待機位置への移動を行うように形成し、かつ、上記処理ブロックの搬送領域内への作業者の進入を可能にすべく、上記インターフェイスアームの移動、上記処理棚ユニットの移動及び処理用受渡しアームの上昇を行うように形成してなる、 ことを特徴とする基板処理装置。
IPC (2件):
H01L 21/027 ,  H01L 21/677
FI (2件):
H01L21/30 562 ,  H01L21/68 A
Fターム (26件):
5F031CA02 ,  5F031CA05 ,  5F031DA08 ,  5F031DA17 ,  5F031FA01 ,  5F031FA02 ,  5F031FA07 ,  5F031FA11 ,  5F031FA12 ,  5F031FA15 ,  5F031GA04 ,  5F031GA47 ,  5F031GA48 ,  5F031GA49 ,  5F031MA02 ,  5F031MA03 ,  5F031MA26 ,  5F031MA27 ,  5F031PA06 ,  5F031PA08 ,  5F146CD05 ,  5F146JA22 ,  5F146JA27 ,  5F146KA10 ,  5F146LA18 ,  5F146LA19
引用特許:
出願人引用 (6件)
  • 塗布、現像装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2011-103228   出願人:東京エレクトロン株式会社
  • 基板処理装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2008-216180   出願人:株式会社SOKUDO
  • 基板処理装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2002-170497   出願人:大日本スクリーン製造株式会社
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審査官引用 (6件)
  • 塗布、現像装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2011-103228   出願人:東京エレクトロン株式会社
  • 基板処理装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2008-216180   出願人:株式会社SOKUDO
  • 基板処理装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2002-170497   出願人:大日本スクリーン製造株式会社
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