処理装置

発明者：
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：日比谷征彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-221716
公開番号（公開出願番号）：特開平10-050800
出願日： 1996年08月05日
公開日（公表日）： 1998年02月20日
要約：

【要約】【目的】メインテナンススペースを含む装置設置面積をコンパクト化し、全体を無理なくメインテナンス可能とする。【構成】処理手段17のメインテナンス作業を行う場合には、先ず搬送手段13、18が動作しない状態であることを確認し、作業員は入口16aから装置本体11内に入り、隔壁20を外して矢印R1方向からメインテナンス作業を行う。このとき、処理手段17の動作チェック等は、搬送手段18の接続口18aに接続した操作部21により行う。また、R1方向からメインテナンス作業ができない場合には、装置本体11の外側のR2方向からメインテナンス作業を行う。

請求項（抜粋）：

半導体製造工程において基板に所定の処理を施こす複数の処理手段と、これらの処理手段に前記基板を搬送するための搬送手段とを備えた処理装置において、内部スペースにおいて作業員がメインテナンス作業を行うことができる筐体構造としたことを特徴とする処理装置。

IPC (3件)：

H01L 21/68 , B65G 49/07 , H01L 21/02

FI (3件)：

H01L 21/68 A , B65G 49/07 Z , H01L 21/02 Z

引用特許：

審査官引用 (8件)

処理システム
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-202717 出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社
基板表面処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-168714 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
縦型基板熱処理装置のクリーンエアユニットの取付構造
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-057425 出願人：大日本スクリーン製造株式会社

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