特許
J-GLOBAL ID：201303025301669497

リソグラフィー装置、および、物品製造方法

発明者：
佐藤 隆紀

佐藤 隆紀 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (6件)： 大塚 康徳 ,  高柳 司郎 ,  大塚 康弘 ,  木村 秀二 ,  下山 治 ,  永川 行光
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-107983
公開番号（公開出願番号）：特開2013-235990
出願日： 2012年05月09日
公開日（公表日）： 2013年11月21日
要約：
【課題】 面位置計測器での計測条件を調整するにあたり生産性の点で有利なリソグラフィー技術を提供すること。【解決手段】 基板に対してパターンの形成を行うリソグラフィー装置は、複数の計測位置それぞれに関して受光部の出力が許容範囲内になるように面位置計測器の計測条件を設定する制御部を有する。制御部は、複数の計測位置のそれぞれに関して、移動中における複数の計測タイミングのそれぞれで、前記複数の投光部のうちの対応する投光部の投光による前記受光部の出力に基づいて計測条件を調整する。制御部は、複数の計測位置のそれぞれに関して、複数の計測タイミングのうち一の計測タイミングにおいて受光部の出力が許容範囲内にある場合、複数の計測タイミングのうち以降の計測タイミングでの計測を行わせずに、計測条件を設定する。【選択図】 図4
請求項（抜粋）：
基板に対してパターンの形成を行うリソグラフィー装置であって、 前記基板を保持して移動可能な保持部と、 前記基板上の複数の計測位置に関して計測を行うために前記保持部とともに移動される前記基板の該移動の方向に沿った複数の計測位置にそれぞれ投光する複数の投光部と、前記複数の投光部によりそれぞれ投光されて前記基板で反射された複数の光を受光する受光部とを有し、前記受光部の出力に基づいて前記基板の面位置を計測する面位置計測器と、 前記複数の計測位置それぞれに関して前記受光部の出力が許容範囲内になるように前記面位置計測器の計測条件を設定する制御部と、を有し、 前記制御部は、 前記複数の計測位置のそれぞれに関して、移動中における複数の計測タイミングのそれぞれで、前記複数の投光部のうちの対応する投光部の投光による前記受光部の出力に基づいて前記計測条件を調整し、 前記制御部は、前記複数の計測位置のそれぞれに関して、前記複数の計測タイミングのうち一の計測タイミングにおいて前記受光部の出力が許容範囲内にある場合、前記複数の計測タイミングのうち以降の計測タイミングでの計測を行わせずに、計測条件を設定することを特徴とするリソグラフィー装置。
IPC (2件)：
H01L 21/027 ,  G03F 9/02
FI (2件)：
H01L21/30 526B ,  G03F9/02 H
Fターム (7件)：
5F146BA04 ,  5F146BA05 ,  5F146DA05 ,  5F146DA07 ,  5F146DA14 ,  5F146DB05 ,  5F146DC10
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (2件)

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