特許
J-GLOBAL ID：201303026545746570

基板洗浄方法および基板洗浄装置

発明者：
佐藤 雅伸

佐藤 雅伸 について


出願人/特許権者：
大日本スクリーン製造株式会社

大日本スクリーン製造株式会社 について


代理人 (2件)： 吉竹 英俊 ,  有田 貴弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-092248
公開番号（公開出願番号）：特開2013-165291
出願日： 2013年04月25日
公開日（公表日）： 2013年08月22日
要約：
【課題】基板にダメージを与えることなく洗浄効率を向上させることができる基板洗浄方法および基板洗浄装置を提供する。【解決手段】洗浄ノズル60の筒状体61の内部に洗浄液を供給しつつバルブ76を閉止し、圧電素子62により洗浄液に振動を付与することによって、複数の吐出孔64から洗浄液の液滴を生成して吐出する。吐出される液滴の液滴径は15μm以上200μm以下であり、その分布は3σで平均液滴径の10%以下である。また、液滴速度は20メートル毎秒以上100メートル毎秒以下であり、その分布は3σで平均液滴速度の10%以下である。さらに、液滴流量は10ミリリットル毎分以上である。これらの吐出条件を満たしつつ洗浄ノズル60から洗浄液の液滴を基板に向けて吐出すれば、基板にダメージを与えることなく洗浄効率を向上させることができる。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
基板に洗浄液の液滴を吐出して洗浄する基板洗浄装置であって、 内側に中空空間が形成された石英の筒状体の壁面に複数の吐出孔を穿設した洗浄ノズルと、 前記洗浄ノズルに常時連続して洗浄液を送給しつつ、洗浄処理を行うときには前記筒状体の内部における洗浄液の液圧を上昇させることによって前記複数の吐出孔のそれぞれから洗浄液を流出させ、固定された所定周波数の交流電圧により発生した振動によって前記複数の吐出孔のそれぞれから流れ出る洗浄液の液流を分断する液滴生成手段と、 を備え、 前記液滴生成手段により、洗浄処理中には、前記複数の吐出孔のそれぞれにて平均液滴径が15μm以上200μm以下であり、液滴径の分布が3σ(σは標準偏差)で前記平均液滴径の10%以下に収まっている洗浄液の液滴のみを生成して所定の液滴流量にて基板に向けて吐出することを特徴とする基板洗浄装置。
IPC (1件)：
H01L 21/304
FI (4件)：
H01L21/304 643C ,  H01L21/304 643A ,  H01L21/304 648G ,  H01L21/304 648K
Fターム (25件)：
4D074AA09 ,  4D074BB03 ,  4D074DD01 ,  4D074DD12 ,  4D074DD13 ,  5F157AA73 ,  5F157AB02 ,  5F157AB14 ,  5F157AB33 ,  5F157AB90 ,  5F157AC01 ,  5F157AC13 ,  5F157BB13 ,  5F157BB22 ,  5F157BB33 ,  5F157BB45 ,  5F157BB73 ,  5F157BC14 ,  5F157BC15 ,  5F157CE24 ,  5F157CF46 ,  5F157DA21 ,  5F157DB02 ,  5F157DB18 ,  5F157DB37
引用特許：
出願人引用 (14件)
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審査官引用 (14件)
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