特許
J-GLOBAL ID:201303033628243020

レーザー照射装置及び半導体装置の作製方法

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-262877
公開番号(公開出願番号):特開2002-190454
特許番号:特許第5222450号
出願日: 2001年08月31日
公開日(公表日): 2002年07月05日
請求項(抜粋):
【請求項1】 照射面またはその近傍において均一なエネルギー分布を有する線状ビームを形成するレーザ照射装置であって、 レーザビームを射出するレーザ発振器と、 前記レーザビームの進行方向に直角である第1の方向において、 前記レーザビームを互いに異なる光路長を有するレーザビームにする階段状石英板と、 前記互いに異なる光路長を有する複数のレーザビームに分割する第1のシリンドリカルレンズアレイと、 前記複数のレーザビームを前記照射面またはその近傍で1つにして、前記線状ビームの長尺方向のエネルギー分布を均一化する第1の合成手段と、 前記レーザビームの進行方向に直角であり、かつ、前記第1の方向に直角な第2の方向において、 前記レーザビームを互いに異なる偏光方向を有するレーザビームにするλ/2板と、 前記互いに異なる偏光方向を有するレーザビームを2つのレーザビームに分割する第2のシリンドリカルレンズアレイと、 前記2つのレーザビームを前記照射面またはその近傍で一つにして、前記線状ビームの短尺方向のエネルギー分布を均一化する第2の合成手段と、 を有し、 前記レーザビームの進行方向に対して、前記階段状石英板、前記λ/2板、前記第2のシリンドリカルレンズアレイ、前記第1のシリンドリカルアレイの順で配置されることを特徴とするレーザ照射装置。
IPC (5件):
H01L 21/268 ( 200 6.01) ,  H01L 21/20 ( 200 6.01) ,  H01L 21/336 ( 200 6.01) ,  H01L 29/786 ( 200 6.01) ,  H01S 3/00 ( 200 6.01)
FI (4件):
H01L 21/268 J ,  H01L 21/20 ,  H01L 29/78 627 G ,  H01S 3/00 B
引用特許:
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (6件)
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