特許
J-GLOBAL ID：201303036434207293
逆浸透膜を用いた水処理システム
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (5件)：
三好 秀和
, 岩▲崎▼ 幸邦
, 伊藤 正和
, 高橋 俊一
, 高松 俊雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-200235
公開番号（公開出願番号）：特開2013-059732
出願日： 2011年09月14日
公開日（公表日）： 2013年04月04日
要約：
【課題】 浄水に利用される逆浸透膜におけるファウリングの発生を、高い精度で安全に抑制することが可能な逆浸透膜を用いた水処理システムを提供する。【解決手段】 実施形態によれば、水処理システムは第1流量計と紫外線照射ランプと紫外線照射量制御装置と高圧ポンプと電解装置と逆浸透膜モジュールとを備える。第1流量計は被処理水の流量を計測する。紫外線照射ランプは被処理水に紫外線を照射する。紫外線照射量制御装置は、計測された被処理水の流量に基づいて紫外線照射ランプによる紫外線の照射量を制御する。高圧ポンプは紫外線が照射された後の被処理水を昇圧する。電解装置は被処理水を電解処理するための銅イオンまたは活性酸素を発生させる電極を有する。逆浸透膜モジュールは電解処理された被処理水を通水して溶質を除去する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
浄水処理のために取水された被処理水の流量を計測する第1流量計と、
前記被処理水に紫外線を照射する紫外線照射ランプと、
前記第1流量計で計測された被処理水の流量に基づいて前記紫外線照射ランプによる紫外線の照射量を制御する紫外線照射量制御装置と、
前記紫外線照射ランプにより紫外線が照射された後の被処理水を昇圧する高圧ポンプと、
前記高圧ポンプにより昇圧された被処理水を電解処理するための、銅イオンまたは活性酸素を発生させる電極を有する電解装置と、
前記電解装置により電解処理された被処理水を通水して溶質を除去する逆浸透膜モジュールと、
を備えることを特徴とする逆浸透膜を用いた水処理システム。
IPC (7件)：
C02F 1/44
, B01D 61/12
, B01D 65/08
, C02F 1/32
, C02F 1/46
, C02F 9/00
, B01D 61/04
C02F1/44 G
, B01D61/12
, B01D65/08
, C02F1/44 C
, C02F1/32
, C02F1/46 Z
, C02F9/00 502F
, C02F9/00 502N
, C02F9/00 502M
, C02F9/00 503A
, C02F9/00 504B
, C02F9/00 504C
, B01D61/04
4D006GA03
, 4D006JA53A
, 4D006KA01
, 4D006KA02
, 4D006KB01
, 4D006KB04
, 4D006KB14
, 4D006KD06
, 4D006KD30
, 4D006KE02P
, 4D006KE12P
, 4D006KE30Q
, 4D006PA01
, 4D006PB03
, 4D006PB05
, 4D006PB08
, 4D006PB70
, 4D006PC80
, 4D037AA05
, 4D037AA06
, 4D037AA11
, 4D037AB03
, 4D037BA18
, 4D037BB01
, 4D037BB02
, 4D037CA03
, 4D037CA04
, 4D061DA01
, 4D061DA04
, 4D061DA08
, 4D061DB09
, 4D061EA02
, 4D061EB04
, 4D061EB31
, 4D061EB37
, 4D061EB39
, 4D061FA07
, 4D061FA09
, 4D061GA02
, 4D061GA06
, 4D061GC12
