特許
J-GLOBAL ID：201303036623082035
半導体上の欠陥材料を自動的に分析するシステム及び方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (6件)：
辻居 幸一
, 熊倉 禎男
, 大塚 文昭
, 西島 孝喜
, 須田 洋之
, 上杉 浩
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-046227
公開番号（公開出願番号）：特開2000-321225
特許番号：特許第4958330号
出願日： 2000年02月23日
公開日（公表日）： 2000年11月24日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 バックグラウンド内の物体の自動的な材料分析用システムであって、
物体材料及びバックグラウンド材料に関連する元素のリストを含む少なくとも1つのライブラリ、
前記バックグラウンド内の物体に、前記物体の自動的に選択された1以上の位置からx線を放射させるための照射手段、
前記バックグラウンド内の物体から放射されたx線を集めるためのx線検出器、
前記x線検出器の出力を受容するとともに、前記物体が異種物体かどうかを決定するために前記x線検出器の出力を前記少なくとも1つのライブラリに少なくとも1つのリストとして含まれる元素と比較することによって該出力を分析するためのプロセッサであって、 前記出力に物体及びバックグラウンド材料のいずれの元素としてもリストされているものが含まれていない場合には、前記物体は異種物体であると決定するものであるプロセッサ、
を含み、
前記プロセッサはさらに、前記比較結果が前記物体は異種物体ではないとの決定の場合には、前記物体の材料組成を決定するために、前記x線検出器の出力及びバックグラウンドのスペクトルを分析するものであるシステム。
IPC (2件)：
G01N 23/225 ( 200 6.01)
, H01L 21/66 ( 200 6.01)
G01N 23/225
, H01L 21/66 J
, H01L 21/66 L
