特許
J-GLOBAL ID：201303037136078673

ポリシングスラリー、及び第13族窒化物基板の製造方法

発明者：
田代 雅之

田代 雅之 について

, 
下村 祥久

下村 祥久 について


出願人/特許権者：
三菱化学株式会社

三菱化学株式会社 について


代理人 (3件)： 岸本 達人 ,  山下 昭彦 ,  山本 典輝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-067284
公開番号（公開出願番号）：特開2013-201176
出願日： 2012年03月23日
公開日（公表日）： 2013年10月03日
要約：
【課題】化学機械的研磨性に優れたポリシングスラリー、及び、当該ポリシングスラリーを用いた第13族窒化物基板の製造方法を提供する。【解決手段】第13族窒化物結晶の表面を化学機械的研磨するためのポリシングスラリーであって、平均粒径の異なる2種以上の砥粒及び水を含み、且つ、酸性であることを特徴とする、ポリシングスラリー。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
第13族窒化物結晶の表面を化学機械的研磨するためのポリシングスラリーであって、 平均粒径の異なる2種以上の砥粒及び水を含み、且つ、酸性であることを特徴とする、ポリシングスラリー。
IPC (2件)：
H01L 21/304 ,  B24B 37/00
FI (3件)：
H01L21/304 621D ,  H01L21/304 622W ,  B24B37/00 H
Fターム (19件)：
3C058AA07 ,  3C058CB03 ,  3C058CB10 ,  3C058DA02 ,  3C058DA12 ,  3C058DA17 ,  5F057AA14 ,  5F057AA28 ,  5F057BA12 ,  5F057BB05 ,  5F057DA03 ,  5F057EA01 ,  5F057EA06 ,  5F057EA12 ,  5F057EA16 ,  5F057EA29 ,  5F057EA32 ,  5F057GA02 ,  5F057GA03
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (3件)

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