洗浄装置及び洗浄方法

発明者：
出願人/特許権者： ,
代理人 (8件)：清流国際特許業務法人 , 昼間孝良 , 小川信一 , 野口賢照 , 佐藤謙二 , 平井功 , 境澤正夫 , 斎下和彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-027661
公開番号（公開出願番号）：特開2013-163159
出願日： 2012年02月10日
公開日（公表日）： 2013年08月22日
要約：

【課題】構造物20等に付着した汚染物質に洗浄水Wwを噴射して洗い流す洗浄装置1及び洗浄方法において、汚染物質の再飛散を防止し、汚染水の発生量を抑制し、洗浄作業を行う作業者の安全性を向上することのできる洗浄装置1及び洗浄方法を提供する。【解決手段】洗浄装置1が、洗浄水Wwを精製する洗浄水精製機構2と、洗浄水Wwを噴射する噴射ノズル3と、噴射ノズル3から噴射され汚染物質を含んだ第1汚染水Wt1を回収する回収機構4と、第1汚染水Wt1から汚染物質を取り除くフィルタ5と、フィルタ5を通過した第2汚染水Wt2を再びフィルタ5の上流側に循環させる循環機構6を有し、循環機構6が、逆浸透膜7を有しており、洗浄装置1が、循環機構6から逆浸透膜7を介して洗浄水精製機構2に純水Wpを供給する再供給回路8を有している。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

構造物に付着した汚染物質に洗浄水を噴射して洗い流す洗浄装置において、前記洗浄装置が、前記洗浄水を精製する洗浄水精製機構と、前記洗浄水を噴射する噴射ノズルと、前記噴射ノズルから噴射され前記汚染物質を含んだ第1汚染水を回収する回収機構と、前記第1汚染水から前記汚染物質を取り除くフィルタと、前記フィルタを通過した第2汚染水を再び前記フィルタの上流側に循環させる循環機構を有し、前記循環機構が、逆浸透膜を有しており、前記洗浄装置が、前記循環機構から前記逆浸透膜を介して前記洗浄水精製機構に純水を供給する再供給回路を有していることを特徴とする洗浄装置。

IPC (2件)：

B08B 3/02 , B08B 3/10

FI (2件)：

B08B3/02 E , B08B3/10 Z

Fターム (7件)：

3B201AA31 , 3B201AB52 , 3B201BB22 , 3B201BB62 , 3B201BB96 , 3B201BB98 , 3B201CD22

引用特許：

審査官引用 (6件)

特開平2-028600
洗浄装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-300308 出願人：株式会社クラレ, ミクニキカイ株式会社
外壁洗浄装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2007-194975 出願人：パナソニック電工株式会社

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