特許
J-GLOBAL ID：201303037754494092
液処理におけるノズル洗浄、処理液乾燥防止方法及びその装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
中本 菊彦
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-137687
公開番号（公開出願番号）：特開2012-235132
特許番号：特許第5289605号
出願日： 2012年06月19日
公開日（公表日）： 2012年11月29日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 処理液供給用のノズルから基板に対して処理液を吐出する処理を行う液処理において、
上記ノズルを、該ノズルの先端周囲の内周面が漏斗状で、該漏斗部の下端はノズルの先端部より上方に位置するよう洗浄室内に収容する工程と、
処理液の溶剤を供給する第1の溶剤供給手段から上記洗浄室の漏斗部に設けられた第1の流入口を介して漏斗部の内周面に沿って周方向に上記溶剤を所定量流入し、上記ノズルの先端部の回りを旋回する上記溶剤の渦流によって洗浄を行う工程と、
処理液の溶剤を供給する第2の溶剤供給手段から上記洗浄室の上記第1の流入口よりも上部に設けられた第2の流入口を介して上記漏斗部の上部に上記溶剤を所定量流入し、上記洗浄室内に上記溶剤の液溜りを形成する工程と、
上記ノズルを吸引して、ノズル内の処理液の液面を処理液供給管路側に後退させると共に、上記液溜りの溶剤をノズルの先端部内に吸引して、ノズルの先端内部に、処理液供給管路側から順に処理液層と空気層と処理液の溶剤層とを形成する工程と、
を有することを特徴とする液処理におけるノズル洗浄及び処理液乾燥防止方法。
IPC (5件)：
H01L 21/027 ( 200 6.01)
, B05C 11/10 ( 200 6.01)
, B05B 15/02 ( 200 6.01)
, B05D 1/26 ( 200 6.01)
, B05D 3/10 ( 200 6.01)
H01L 21/30 564 C
, B05C 11/10
, B05B 15/02
, B05D 1/26 Z
, B05D 3/10 F
