特許
J-GLOBAL ID：201303038916459160
プラズマを用いた微粒子配列装置及び微粒子配列方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
田中 光雄
, 鮫島 睦
, 岡部 博史
, 稲葉 和久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-174128
公開番号（公開出願番号）：特開2013-036095
出願日： 2011年08月09日
公開日（公表日）： 2013年02月21日
要約：
【課題】数十nmから数十μmの大きさの、任意の材料の微粒子を、任意の場所に、任意の形状に短時間で配列させる微粒子配列装置および微粒子配列方法を提供する。【解決手段】微粒子配列装置20は、プラズマ3を発生させるプラズマ発生装置10と、プラズマを発生させている領域に微粒子6を注入する微粒子注入部16と、プラズマ発生装置内で、プラズマに面する位置に微粒子を配列させるための基板を保持する基板保持部と、基板12上に配置するパターン14であって、基板上に微粒子を配列させる箇所を中心とする開口部を設けたパターンと、を備え、プラズマを発生させている領域に微粒子を注入した後、プラズマ発生装置内のプラズマを消滅させて基板上にパターンに対応して微粒子を配列させる。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
プラズマを発生させるプラズマ発生装置と、
前記プラズマを発生させている領域に微粒子を注入する微粒子注入部と、
前記プラズマ発生装置内で、前記プラズマに面する位置に前記微粒子を配列させるための基板を保持する基板保持部と、
前記基板上に配置するパターンであって、前記基板上に微粒子を配列させる箇所を中心とする開口部を設けたパターンと、
を備え、
前記プラズマを発生させている領域に微粒子を注入した後、前記プラズマ発生装置内の前記プラズマを消滅させて前記基板上に前記パターンに対応して前記微粒子を配列させる微粒子配列装置。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (5件)：
4K030BA44
, 4K030CA05
, 4K030CA18
, 4K030FA03
, 4K030KA02
