特許
J-GLOBAL ID:201303040082823115

酸化亜鉛焼結体およびその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 堀 城之
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2013-140881
公開番号(公開出願番号):特開2013-224259
出願日: 2013年07月04日
公開日(公表日): 2013年10月31日
要約:
【課題】スパッタリングターゲットとして用いた場合に、異常放電を発生せず、比抵抗の小さな透明電極を得ることができる程度に緻密な酸化亜鉛焼結体を得る。【解決手段】ZnOにAl、Ga、In、Ti、Si、Ge、Snのうちいずれか1種以上の添加物元素を含有する酸化亜鉛焼結体であって、前記添加物元素及び亜鉛の複合酸化物相を含む析出物、および該析出物の周辺に形成された空孔をそれぞれ複数有し、前記析出物のうち、その円相当径が3μm以上である析出物の割合が20%以下であり、前記空孔のうち、その円相当径が3μm以上である空孔の割合が50%以下である酸化亜鉛焼結体を形成する。その製造方法は、Al2O3粉末とZnO粉末とを配合、成形して焼結体を得るのではなく、まずZnAl2O4相を含む仮焼粉末を製造し、この仮焼粉末とZnO粉末とを配合、成形、焼成して酸化亜鉛焼結体を形成する。【選択図】図1
請求項(抜粋):
ZnOにAl、Ga、In、Ti、Si、Ge、Snのうちいずれか1種以上の添加物元素を含有する酸化亜鉛焼結体であって、前記添加物元素及び亜鉛の複合酸化物相を含む析出物、および該析出物の周辺に形成された空孔をそれぞれ複数有し、前記析出物のうち、その円相当径が3μm以上である析出物の割合が20%以下であり、前記空孔のうち、その円相当径が3μm以上である空孔の割合が50%以下であることを特徴とする酸化亜鉛焼結体。
IPC (2件):
C04B 35/453 ,  C23C 14/34
FI (2件):
C04B35/00 P ,  C23C14/34 A
Fターム (20件):
4G030AA16 ,  4G030AA32 ,  4G030AA34 ,  4G030AA36 ,  4G030AA37 ,  4G030AA38 ,  4G030AA39 ,  4G030BA02 ,  4G030BA15 ,  4G030GA08 ,  4G030GA27 ,  4K029AA09 ,  4K029BA49 ,  4K029BA50 ,  4K029BC09 ,  4K029CA05 ,  4K029DC05 ,  4K029DC09 ,  4K029DC34 ,  4K029DC39
引用特許:
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (3件)

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