特許
J-GLOBAL ID:201303041055144644
半導体レーザ素子
発明者:
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (3件):
稲岡 耕作
, 川崎 実夫
, 香山 秀幸
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2012-256632
公開番号(公開出願番号):特開2013-034034
出願日: 2012年11月22日
公開日(公表日): 2013年02月14日
要約:
【課題】高出力化に適した半導体レーザ素子を提供する。【解決手段】半導体レーザダイオード70は、基板1と、基板1上に結晶成長によって形成された半導体積層構造2とを含む。半導体積層構造2は、n型(Alx1Ga(1-x1))0.51In0.49Pクラッド層14およびp型(Alx1Ga(1-x1))0.51In0.49Pクラッド層17と、これらのクラッド層14,17に挟まれたn側Alx2Ga(1-x2)Asガイド層15およびp側Alx2Ga(1-x2)Asガイド層16と、これらのガイド層15,16に挟まれた活性層10とを含む。活性層10は、AlyGa(1-y)As(1-x3)Px3層からなる量子井戸層221とAlx4Ga(1-x4)As層からなる障壁層222とを交互に複数周期繰り返し積層して構成されている。【選択図】図1
請求項(抜粋):
p型クラッド層およびn型クラッド層と、
前記p型クラッド層およびn型クラッド層に挟まれたp側ガイド層およびn側ガイド層と、
前記p側ガイド層およびn側ガイド層に挟まれ、少なくとも1つの量子井戸層を含む活性層とを備え、
前記p型クラッド層およびn型クラッド層は、それぞれ(Alx1Ga(1-x1))0.51In0.49P層(0≦x1≦1)からなり、
前記p側ガイド層およびn側ガイド層は、それぞれAlx2Ga(1-x2)As層(0≦x2≦1)からなり、
前記量子井戸層は、AlyGa(1-y)As(1-x3)Px3層(0
IPC (1件):
FI (1件):
Fターム (12件):
5F173AA08
, 5F173AB76
, 5F173AF04
, 5F173AF13
, 5F173AF15
, 5F173AF35
, 5F173AF55
, 5F173AH28
, 5F173AP05
, 5F173AP52
, 5F173AR14
, 5F173AR44
引用特許:
審査官引用 (6件)
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半導体レーザ素子
公報種別:公開公報
出願番号:特願2010-277091
出願人:ローム株式会社
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半導体レーザ装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2009-090934
出願人:三菱電機株式会社
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半導体光素子
公報種別:公開公報
出願番号:特願2005-059595
出願人:三菱電機株式会社
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