特許
J-GLOBAL ID：201303042581622484

マイクロリソグラフィ投影露光装置のための投影対物レンズ

発明者：
ヴァブラ,ノルベルト

ヴァブラ,ノルベルト について

, 
エダー,ロバート

エダー,ロバート について


出願人/特許権者：
カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー

カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー について


代理人 (7件)： 辻居 幸一 ,  熊倉 禎男 ,  大塚 文昭 ,  西島 孝喜 ,  須田 洋之 ,  上杉 浩 ,  岸 慶憲
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-127604
公開番号（公開出願番号）：特開2013-228751
出願日： 2013年06月18日
公開日（公表日）： 2013年11月07日
要約：
【課題】本発明の目的は、生じる波面変形が光活性表面を再処理することによってより効果的に補償される投影対物レンズを提供することである。【解決手段】マイクロリソグラフィ投影露光装置の投影対物レンズは、ひとみ平面(E1、E3)または中間像平面(E2)によって互いに分離された、N≧2である投影対物レンズ(10)の連続セクションA1〜ANで配置された複数の光エレメント(P、S、L1〜L8、L13、L19)を備えている。本発明によれば、波面変形を修正するために、少なくとも2つの光エレメントが、それぞれ、局部的に非球面再処理された光活性表面を有している。この場合、第1の光エレメントは、j=1...Nである1つのセクションAjに配置され、第2の光エレメントは、k=1...Nである他のセクションAkに配置されている。絶対値の差|k-j|は奇数である。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
ひとみ平面(E1、E3)または中間像平面(E2)によって互いに分離された、N≧2である投影対物レンズ(10)の連続セクションA1〜ANに配置された複数の光エレメント(P、S、L1〜L8、L13、L19)を備えた、マイクロリソグラフィ投影露光装置の投影対物レンズであって、 波面変形を修正するために、少なくとも2つの光エレメントが、それぞれ、局部的に非球面再処理された光活性表面を有し、第1の光エレメントが、j=1...Nである1つのセクションAjに配置され、第2の光エレメントが、k=1...Nである他のセクションAkに配置され、絶対値の差|k-j|が奇数であることを特徴とする投影対物レンズ。
IPC (3件)：
G02B 13/24 ,  H01L 21/027 ,  G03F 7/20
FI (4件)：
G02B13/24 ,  H01L21/30 515D ,  H01L21/30 516A ,  G03F7/20 521
Fターム (6件)：
2H087KA21 ,  2H087LA01 ,  5F146BA03 ,  5F146CB12 ,  5F146CB45 ,  5F146DA13
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (2件)

前のページに戻る

TOP

BOTTOM