特許
J-GLOBAL ID：201303042914236196

地盤の液状化対策構造

発明者：
高岡 雄二

高岡 雄二 について

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宮田 勝利

宮田 勝利 について

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平田 裕一

平田 裕一 について

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高橋 直樹

高橋 直樹 について

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瀬藤 慎一

瀬藤 慎一 について


出願人/特許権者：
三井住友建設株式会社

三井住友建設株式会社 について


代理人 (1件)： 特許業務法人 大島特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-064737
公開番号（公開出願番号）：特開2013-194462
出願日： 2012年03月22日
公開日（公表日）： 2013年09月30日
要約：
【課題】比較的安価かつ容易に施工することができ、地震時に不同沈下を防止できるとともに、過剰間隙水圧が高くなった場合にも地盤としての機能が失われることのない液状化対策構造を提供する。【解決手段】液状化地盤10の液状化対策構造20において、液状化層13の上方に駐車場7の全域にわたって改良地盤層21を形成し、改良地盤層21の上方に駐車場7の全域にわたって横ドレーン層22を形成する。駐車場7には、分散配置されて横ドレーン層22に接続する複数の縦ドレーン24を液状化層13に達するように略鉛直に形成するとともに、排水溝25を設け、前記液状化層13の液状化により発生する過剰間隙水を、縦ドレーン24および横ドレーン層22を介して排水溝25に流入させることにより、不同沈下を防止する。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
液状化層が存在する地盤の液状化対策構造であって、 前記液状化層の上方にて対象領域の全域にわたって形成される改良地盤層と、 前記改良地盤層の上方にて前記対象領域の全域にわたって形成される横ドレーン層と、 前記横ドレーン層に接続し且つ前記液状化層に達するように略鉛直に形成され、前記対象領域に分散配置される複数の縦ドレーンと、 前記対象領域の表面に設けられ、前記横ドレーン層を流通する水を排水する排水溝とを有し、 前記液状化層の液状化により発生する過剰間隙水を、前記縦ドレーンおよび前記横ドレーン層を介して前記排水溝に流入させるようにしたことを特徴とする地盤の液状化対策構造。
IPC (3件)：
E02D 27/34 ,  E02D 3/10 ,  E02D 3/12
FI (5件)：
E02D27/34 Z ,  E02D27/34 A ,  E02D3/10 101 ,  E02D3/10 104 ,  E02D3/12 102
Fターム (16件)：
2D040AA02 ,  2D040AB05 ,  2D040AC02 ,  2D040BA11 ,  2D040BB03 ,  2D040CB01 ,  2D040CB03 ,  2D043CA04 ,  2D043DA04 ,  2D043DA07 ,  2D043DD20 ,  2D043EA02 ,  2D043EA10 ,  2D043EB02 ,  2D046DA11 ,  2D046DA18
引用特許：
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (4件)
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