特許
J-GLOBAL ID：201303043242624911

感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、これを用いた感活性光線性又は感放射線性膜、及び、パターン形成方法

発明者：
稲崎 毅

稲崎 毅 について

, 
川端 健志

川端 健志 について

, 
土村 智孝

土村 智孝 について


出願人/特許権者：
富士フイルム株式会社

富士フイルム株式会社 について


代理人 (17件)： 蔵田 昌俊 ,  高倉 成男 ,  河野 哲 ,  中村 誠 ,  福原 淑弘 ,  峰 隆司 ,  白根 俊郎 ,  村松 貞男 ,  野河 信久 ,  幸長 保次郎 ,  河野 直樹 ,  砂川 克 ,  井関 守三 ,  佐藤 立志 ,  岡田 貴志 ,  堀内 美保子 ,  竹内 将訓
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-077484
公開番号（公開出願番号）：特開2013-020226
出願日： 2012年03月29日
公開日（公表日）： 2013年01月31日
要約：
【課題】高解像性で良好な形状の孤立ラインパターンを形成することができ、且つ、ドライエッチング耐性を含む他のレジスト性能にも優れる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、これを用いた感活性光線性又は感放射線性膜、及びパターン形成方法を提供すること。【解決手段】少なくとも1つのフェノール性水酸基と、フェノール性水酸基の水素原子が下記一般式(1)で表される基によって置換されている基を少なくとも1つ含む化合物(P)を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。【化1】【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
少なくとも1つのフェノール性水酸基と、フェノール性水酸基の水素原子が下記一般式(1)で表される基によって置換されている基を少なくとも1つ含む化合物(P)を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。
IPC (3件)：
G03F 7/039 ,  H01L 21/027 ,  C08F 212/08
FI (3件)：
G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R ,  C08F212/08
Fターム (58件)：
2H125AF17P ,  2H125AF18P ,  2H125AF34P ,  2H125AF38P ,  2H125AF39P ,  2H125AF70P ,  2H125AH05 ,  2H125AH22 ,  2H125AJ04X ,  2H125AJ04Y ,  2H125AJ42X ,  2H125AJ45X ,  2H125AJ48X ,  2H125AJ48Y ,  2H125AJ65Y ,  2H125AL02 ,  2H125AL17 ,  2H125AL19 ,  2H125AM66P ,  2H125AM99P ,  2H125AN38P ,  2H125AN39P ,  2H125AN42P ,  2H125AN57P ,  2H125AN63P ,  2H125AN67P ,  2H125AN86P ,  2H125BA01P ,  2H125BA02P ,  2H125BA26P ,  2H125BA32P ,  2H125BA33P ,  2H125CA12 ,  2H125CB12 ,  2H125CB16 ,  2H125CC03 ,  2H125CC15 ,  4J100AB07P ,  4J100AB07Q ,  4J100AB07R ,  4J100BA02Q ,  4J100BA02R ,  4J100BA03P ,  4J100BA15R ,  4J100BA15S ,  4J100BA28R ,  4J100BA56S ,  4J100BC04Q ,  4J100BC08Q ,  4J100BC09Q ,  4J100BC43Q ,  4J100BC43R ,  4J100BC43S ,  4J100BC49R ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100CA06 ,  4J100JA37
引用特許：
出願人引用 (5件)
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