感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いたレジスト膜及びパターン形成方法

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：高松猛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-131381
公開番号（公開出願番号）：特開2012-027453
出願日： 2011年06月13日
公開日（公表日）： 2012年02月09日
要約：

【課題】特に電子線、X線又はEUV光リソグラフィーにおける、高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネスを高次元で同時に満足するとともに、露光時のアウトガス性能、及び、経時安定性が充分に良好な感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。【解決手段】活性光線又は放射線の照射により分解して樹脂の側鎖に酸アニオンを発生するイオン性構造部位を備えた繰り返し単位(A)を有する樹脂(P)を含有する、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物であって、前記イオン性構造部位のカチオンが、特定の構造を有するジアリールヨードニウムカチオンである、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いたレジスト膜及びパターン形成方法。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

活性光線又は放射線の照射により分解して樹脂の側鎖に酸アニオンを発生するイオン性構造部位を備えた繰り返し単位(A)と下記一般式(I)で表される繰り返し単位(C)とを有する樹脂(P)を含有する、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物であって、前記イオン性構造部位のカチオンが、下記一般式(A1)で表されるジアリールヨードニウムカチオンである、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。

IPC (4件)：

G03F 7/004 , G03F 7/039 , C08F 212/14 , H01L 21/027

FI (4件)：

G03F7/004 503A , G03F7/039 601 , C08F212/14 , H01L21/30 502R

Fターム (105件)：

2H125AF17P , 2H125AF27P , 2H125AF34P , 2H125AF35P , 2H125AF36P , 2H125AF39P , 2H125AF45P , 2H125AF70P , 2H125AH04 , 2H125AH05 , 2H125AH06 , 2H125AH11 , 2H125AH13 , 2H125AH14 , 2H125AH15 , 2H125AH17 , 2H125AH19 , 2H125AH22 , 2H125AH23 , 2H125AH24 , 2H125AH25 , 2H125AH29 , 2H125AJ02Y , 2H125AJ04X , 2H125AJ04Y , 2H125AJ08X , 2H125AJ12X , 2H125AJ14X , 2H125AJ14Y , 2H125AJ22Y , 2H125AJ42X , 2H125AJ42Y , 2H125AJ43X , 2H125AJ43Y , 2H125AJ44Y , 2H125AJ45X , 2H125AJ45Y , 2H125AJ47Y , 2H125AJ48X , 2H125AJ48Y , 2H125AJ55Y , 2H125AJ63Y , 2H125AJ64X , 2H125AJ64Y , 2H125AJ65Y , 2H125AJ68Y , 2H125AJ70Y , 2H125AJ74Y , 2H125AM09P , 2H125AM25P , 2H125AM86P , 2H125AM99P , 2H125AN08P , 2H125AN38P , 2H125AN39P , 2H125AN42P , 2H125AN45P , 2H125AN54P , 2H125AN57P , 2H125AN63P , 2H125AN67P , 2H125AN86P , 2H125BA01P , 2H125BA02P , 2H125BA26P , 2H125BA32P , 2H125BA33P , 2H125CA12 , 2H125CB12 , 2H125CB16 , 2H125CC03 , 2H125CC15 , 4J100AB00R , 4J100AB07P , 4J100AB07R , 4J100AL03Q , 4J100AL08Q , 4J100BA02P , 4J100BA02R , 4J100BA03R , 4J100BA11R , 4J100BA15P , 4J100BA15Q , 4J100BA41P , 4J100BA51P , 4J100BA56P , 4J100BA58P , 4J100BB07P , 4J100BB12P , 4J100BB18P , 4J100BC03Q , 4J100BC04Q , 4J100BC09P , 4J100BC09Q , 4J100BC43P , 4J100BC44Q , 4J100BC49P , 4J100BC53R , 4J100BC74P , 4J100CA03 , 4J100CA04 , 4J100DA01 , 4J100DA04 , 4J100FA19 , 4J100JA38

引用特許：

審査官引用 (6件)

含フッ素化合物、含フッ素高分子化合物、レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2008-329453 出願人：セントラル硝子株式会社
平版印刷版用原版
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-374530 出願人：富士写真フイルム株式会社
ポジ型レジスト組成物、該組成物を用いたパターン形成方法及び該組成物に用いられる樹脂
公報種別：公開公報出願番号：特願2009-145677 出願人：富士フイルム株式会社

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