特許
J-GLOBAL ID：201103016225559683
ポジ型レジスト組成物およびパターン形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
好宮 幹夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-156784
公開番号（公開出願番号）：特開2011-013419
出願日： 2009年07月01日
公開日（公表日）： 2011年01月20日
要約：
【課題】微細加工のためのフォトリソグラフィー、特にKrFレーザー、極短紫外線、電子線、X線などを露光源として用いたリソグラフィーにおいて、エッチング耐性及び解像性に優れ、基板界面において良好なパターン形状を与えるポジ型レジスト組成物、及びこれを用いたパターン形成方法の提供。【解決手段】(A)酸不安定基で保護された酸性官能基を有するアルカリ不溶性又は難溶性の樹脂であって、該酸不安定基が脱離したときにアルカリ可溶性となるベース樹脂、(B)酸発生剤、(C)塩基性成分として窒素を含有する化合物、を含有するレジスト組成物であって、ベース樹脂は、一般式(1)で表される繰り返し単位を含有すると共に、一般式(2)及び/又は(3)で表される繰り返し単位を1種あるいは2種以上含有し、更に、前記ベース樹脂を構成する全繰り返し単位中、一般式(1)、(2)及び(3)で表される繰り返し単位を70モル%以上含有する。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
少なくとも、
(A)酸不安定基で保護された酸性官能基を有するアルカリ不溶性又は難溶性の樹脂であって、該酸不安定基が脱離したときにアルカリ可溶性となるベース樹脂、
(B)酸発生剤、
(C)塩基性成分として窒素を含有する化合物、
を含有するレジスト組成物であって、前記ベース樹脂は、下記一般式(1)で表される繰り返し単位を含有するポリマーであるか、下記一般式(1)で表される繰り返し単位を含有すると共に、下記一般式(2)及び(3)で表される繰り返し単位を少なくとも1種以上含有するポリマーであり、更に、前記ベース樹脂を構成する全繰り返し単位中、下記一般式(1)、(2)及び(3)で表される繰り返し単位を合計で70モル%以上含有するものであることを特徴とするポジ型レジスト組成物。
IPC (5件)：
G03F 7/039
, G03F 7/004
, C08F 232/08
, C08F 8/00
, H01L 21/027
G03F7/039 601
, G03F7/004 501
, G03F7/004 503A
, C08F232/08
, C08F8/00
, H01L21/30 502R
2H125AF17P
, 2H125AF18P
, 2H125AF38P
, 2H125AH05
, 2H125AH12
, 2H125AJ02X
, 2H125AJ02Y
, 2H125AJ03X
, 2H125AJ03Y
, 2H125AJ42X
, 2H125AJ42Y
, 2H125AJ82Y
, 2H125AN02P
, 2H125AN65P
, 2H125AN86P
, 2H125BA02P
, 2H125BA26P
, 2H125BA31P
, 2H125CA12
, 2H125CB16
, 2H125CC03
, 2H125CC15
, 4J100AB07Q
, 4J100AB07R
, 4J100AB07S
, 4J100AL08R
, 4J100AR09P
, 4J100AR09Q
, 4J100AR09R
, 4J100AR10Q
, 4J100AR10S
, 4J100BA02H
, 4J100BA02Q
, 4J100BA02R
, 4J100BA02S
, 4J100BA03P
, 4J100BA10P
, 4J100BC12H
, 4J100BC12R
, 4J100BC43R
, 4J100BC43S
, 4J100BC48R
, 4J100BC48S
, 4J100CA04
, 4J100CA05
, 4J100CA06
, 4J100DA01
, 4J100DA04
, 4J100FA03
, 4J100FA19
, 4J100HA08
, 4J100HA19
, 4J100HA61
, 4J100HC13
, 4J100HC45
, 4J100HE14
, 4J100JA38
