特許
J-GLOBAL ID：201303043897027193
キラル補助基を効率的に除去する光学活性化合物の製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
筒井 知
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-047607
公開番号（公開出願番号）：特開2002-249463
特許番号：特許第4786040号
出願日： 2001年02月23日
公開日（公表日）： 2002年09月06日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 下記の反応式(2)に従い、キラル補助基であるヒドロキシエチルアミドを有する不斉合成生成物(A2)に、炭酸ジメチルの存在下にナトリウムメトキシドを反応させることにより、不斉エステル(B2)およびオキサゾリジノンの類縁体(C2)を生成させることを特徴とする不斉合成生成物からキラル補助基を除去して光学活性化合物である不斉エステルを製造する方法。
(但し、上記式中、Rは目的の光学活性化合物である不斉エステルを構成する不斉源を含む官能基または原子団を表し、R’は炭素数1〜6のアルキル基またはベンジル基を表す。)
IPC (7件)：
C07C 67/20 ( 200 6.01)
, C07C 69/24 ( 200 6.01)
, C07C 69/612 ( 200 6.01)
, C07C 69/618 ( 200 6.01)
, C07D 471/08 ( 200 6.01)
, C07B 53/00 ( 200 6.01)
, C07D 263/22 ( 200 6.01)
C07C 67/20
, C07C 69/24
, C07C 69/612
, C07C 69/618
, C07D 471/08
, C07B 53/00 F
, C07D 263/22
