特許

J-GLOBAL ID：201303045846534522

化学的にパターン化された表面と第2の表面との間でのブロック共重合体薄膜の誘導集合

発明者： ポール・フランクリン・ニーレイ ,  ヒュイマン・カン ,  グオリアン・リウ ,  ヒロシ・ヨシダ ,  アベラルド・ラミレス-ヘルナンデス ,  ジュアン ホセ・デ パブロ ,  ヤスヒコ・タダ
出願人/特許権者： ウィスコンシン・アラムナイ・リサーチ・ファウンデーション ,  株式会社日立製作所
代理人 (2件)： 特許業務法人明成国際特許事務所 ,  垣見 茂樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-204273
公開番号（公開出願番号）：特開2013-227479
出願日： 2012年09月18日
公開日（公表日）： 2013年11月07日
要約：

【課題】薄膜構造を製造する方法の提供。【解決手段】薄膜310の両側に配置された凝縮相表面の存在下でブロック共重合体材料307を集合させる工程を備えており、凝縮相表面の少なくとも一方は、ブロック共重合体材料307の集合を誘導するよう構成された化学的パターン化表面303である。様々な実施形態によると、凝縮相表面303の他方は、化学的に均質な表面であっても、化学的にパターン化された表面303であってもよい。ブロック共重合体材料307のドメイン構造内309a,bに形成された構造、形態、および、テンプレートも提供されている。特定の実施形態において、バルクブロック共重合体材料内に存在しない複雑な三次元形態および関連の構造が提供される。【選択図】図3

請求項（抜粋）：

方法であって、 化学的にパターン化された第1の表面と第2の表面との間にブロック共重合体材料を提供する工程と、 ミクロ層分離されたブロック共重合体ドメインを含む薄膜を形成するために、前記ブロック共重合体材料を秩序化する工程と、 を備える、方法。

IPC (2件)：

C08J 7/00 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

C08J7/00 301 ,  C08J7/00 ,  H01L21/30 502D

Fターム (8件)：

4F073AA29 ,  4F073AA32 ,  4F073BA18 ,  4F073BA19 ,  4F073BA34 ,  4F073BB01 ,  4F073GA01 ,  5F146AA28

引用特許：

審査官引用 (3件)

• ナノ構造体、多孔質ナノ構造体および機能性ナノ構造体、並びにそれらの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-160022   出願人：古河電気工業株式会社
• 高分子超薄膜および高分子超薄膜パターン、並びに、パターン形成用組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2009-230774   出願人：富士フイルム株式会社
• 高分子薄膜及びパターン媒体並びにこれらの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2008-325407   出願人：国立大学法人京都大学, 株式会社日立製作所

引用文献：

審査官引用 (1件)

• "Morphology of thin block copolymer films on chemically patterned substrates,"