特許
J-GLOBAL ID：201303046028304100

基板処理装置、デバイス製造システム及びデバイス製造方法

発明者：
荒井 正範

荒井 正範 について


出願人/特許権者：
株式会社ニコン

株式会社ニコン について


代理人 (2件)： 志賀 正武 ,  高橋 詔男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-060614
公開番号（公開出願番号）：特開2013-195530
出願日： 2012年03月16日
公開日（公表日）： 2013年09月30日
要約：
【課題】装置の構成をシンプルにできる基板処理装置を提供する。【解決手段】基板処理装置(11)は、湾曲した照明領域を露光光で照明する照明光学系と、照明領域で反射した露光光(EL2)により照明領域の中間像を形成し、中間像を湾曲した投影領域(PR)に投影する投影光学系(PL)と、を含む。投影光学系は、照明領域から投影領域に至る光路の第1瞳面(p5)の位置又はその近傍に配置された第1凹面鏡(46)と、中間像が形成される中間像面(p4)の位置又はその近傍に配置された第2凹面鏡(47)と、を含む。【選択図】図3
請求項（抜粋）：
湾曲した照明領域を露光光で照明する照明光学系と、 前記照明領域で反射した前記露光光により前記照明領域の中間像を形成し、前記中間像を湾曲した投影領域に投影する投影光学系と、を含み、 前記投影光学系は、 前記照明領域から前記投影領域に至る光路の第1瞳面の位置又はその近傍に配置された第1凹面鏡と、 前記中間像が形成される中間像面の位置又はその近傍に配置された第2凹面鏡と、を含む基板処理装置。
IPC (3件)：
G03F 7/20 ,  G02B 17/08 ,  G02B 13/26
FI (3件)：
G03F7/20 501 ,  G02B17/08 Z ,  G02B13/26
Fターム (26件)：
2H087KA21 ,  2H087LA24 ,  2H087LA27 ,  2H087NA02 ,  2H087RA37 ,  2H087TA01 ,  2H087TA05 ,  2H097AB04 ,  2H097AB08 ,  2H097CA12 ,  2H097CA13 ,  2H097DA20 ,  2H097DB12 ,  2H097GB01 ,  2H097GB02 ,  2H097GB03 ,  2H097JA02 ,  5F146AA20 ,  5F146AA25 ,  5F146BA03 ,  5F146CB03 ,  5F146CB10 ,  5F146CB12 ,  5F146CB45 ,  5F146CC01 ,  5F146CC02
引用特許：
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (8件)
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