特許
J-GLOBAL ID：201403069630660810

投影露光装置及びデバイス製造方法

発明者：
根岸 武利

根岸 武利 について


出願人/特許権者：
株式会社ニコン

株式会社ニコン について


代理人 (2件)： 志賀 正武 ,  高橋 詔男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-176501
公開番号（公開出願番号）：特開2014-035449
出願日： 2012年08月08日
公開日（公表日）： 2014年02月24日
要約：
【課題】装置の構成をシンプルにできる投影露光装置を提供する。【解決手段】反射型マスクMに形成されたパターンを感応基板P上に投影露光する。反射型マスクと感応基板との間に反射型マスクのパターンの中間像を形成する第1結像光学系PF1と、中間像を感応基板上に再結像する第2結像光学系PF2とを有する投影光学系PLと、反射型マスクのパターンを照明するための照明光を生成する照明系ILと、第1結像光学系と第2結像光学系との間で中間像が形成される空間に配置され、照明系からの照明光が第1結像光学系を介して反射型マスクのパターンに向かうように導くとともに、反射型マスクのパターンからの結像光が第1結像光学系を介して第2結像光学系に向かうように導く光分割器DLと、を備えた。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
反射型マスクに形成されたパターンを感応基板上に投影露光する投影露光装置であって、 前記反射型マスクと前記感応基板との間に前記反射型マスクのパターンの中間像を形成する第1結像光学系と、該中間像を前記感応基板上に再結像する第2結像光学系とを有する投影光学系と、 前記反射型マスクのパターンを照明するための照明光を生成する照明系と、 前記第1結像光学系と前記第2結像光学系との間で前記中間像が形成される空間に配置され、前記照明系からの照明光が前記第1結像光学系を介して前記反射型マスクのパターンに向かうように導くとともに、前記反射型マスクのパターンからの結像光が前記第1結像光学系を介して前記第2結像光学系に向かうように導く光分割器と、 を備えた投影露光装置。
IPC (5件)：
G03F 7/20 ,  H01L 21/027 ,  G02B 21/04 ,  G02B 19/00 ,  G03F 1/00
FI (5件)：
G03F7/20 501 ,  H01L21/30 515D ,  G02B21/04 ,  G02B19/00 ,  G03F1/00 Z
Fターム (22件)：
2H052BA02 ,  2H052BA09 ,  2H052BA12 ,  2H087KA21 ,  2H087LA01 ,  2H087LA27 ,  2H087TA01 ,  2H087TA03 ,  2H095AB06 ,  2H095BB29 ,  2H095BC28 ,  2H097AA02 ,  2H097AA16 ,  2H097AB02 ,  2H097AB07 ,  2H097AB10 ,  2H097CA06 ,  2H097LA11 ,  5F146BA03 ,  5F146CB10 ,  5F146CB12 ,  5F146CB15
引用特許：
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (8件)
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